なぜ半導体製造において熱風を使わなくなっているのか もし、クリーンルームの設備をアップグレードする作業を経験したことがあれば、温度上昇に伴う苦労をご存知でしょう。これは、どうしても時間がかかる工程です。 多くの古い工場では依然として熱風を利用しています。しかし問題は、まず空気を加熱し、その後、その...

化学物質が不安定になったときの安全対策 クリーンルーム内で赤外線ランプを使用する場合、特に可燃性の洗浄剤がある場所では、単純に通常のヒーターを使うわけにはいきません。VOCsが存在するからです。ちょっとした火花や、表面の温度が少し高くなっただけでも、深刻な問題が発生します。 だからこそ、私たちはこ...

壁を加熱するのはやめましょう。代わりにウェーハを加熱しましょう。 正直に言えば、半導体製造工場では、制御されない熱は大変な問題です。 もし従来型の対流式ヒーターや全方位に熱を放つヒーターを使っているなら、その問題に気づいているはずです。エネルギーがウェーハだけでなく、チャンバー全体に行き渡ってしま...

ウェーハの汚染を未然に防こう 正直言って、高負荷の半導体製造ラインで赤外線ランプが壊れるのは本当に最悪な状況です。 単にヒーターが停止するだけではありません。石英管が壊れると、ガラスの破片や化学物質がウェーハの表面に散乱します。一度壊れてしまうと、そのロット全体が無駄になってしまいます。 私たちは...

IR加熱と揮発性化学物質が共存する環境での安全対策 バイオセンサーを製造している方なら、正確なIR加熱や乾燥が必要だということはご存知でしょう。しかし問題は、その処理が通常、化学洗浄剤の近くで行われるという点です。これらの溶剤の多くは可燃性があり、場合によっては爆発性もあります。 そうした環境では...

シャードの発生を防ぐ：ウェーハをヒーターの故障から守る方法 大量生産型の半導体工場において、赤外線ランプが破損すると、それは大きな問題となります。単に停止時間や煩わしい清掃作業だけの問題ではありません。破損したランプからはガラスの破片やハロゲンガスが飛び散り、作業中のウェーハが損傷してしまいます。...

ガラスの破片が降り注ぐのを防ぐ：IR乾燥時にウェーハを清潔に保つ方法 MEMSセンサーの製造において、赤外線ランプが故障すると大変なことになります。それは単なる部品の故障ではなく、まさに災害です。 高圧下で石英管が割れると、ガラスの破片やタングステンフィラメントがウェーハ上に降り注ぎます。一度故障...

なぜ、IRシステムにおいて金製の反射板が最適なのか 半導体製造工場では、熱をどれだけ速く、正確に制御できるかが重要です。多くの人々は対流式のオーブンを使っていますが、正直なところ、それらは大量のエネルギーを無駄にしてしまいます。私たちは、短波長の赤外線ランプと金メッキされた反射板を用いることで、よ...

なぜウェーハ輸送用ヒーターに金を使用するのか クリーンルーム内でウェーハを移動させるとき、温度は非常に重要です。温度が低すぎたり、急激に変化したりすると、汚染や熱衝撃が発生してしまいます。これは良いスタートではありません。 そうしたことを防ぐために、私たちは金でコーティングされた反射板を使用します...

オーブンを待つのはやめましょう：金メッキされた赤外線ランプが半導体加工のスピードを上げる方法 半導体加工に携わったことがある人なら、待つことの苦しさをよく知っているでしょう。 熱風を使って加熱する方法は非効率的です。空気は熱を伝えるのが苦手です。その結果、ただ時間だけが過ぎていき、基板が適切な温度...

ウェーハ処理における二酸化炭素削減（正気を保ちながら） 現在、すべての半導体工場は、ネットゼロ目標を達成するために苦労している。しかし、実際にエネルギーがどこで消費されているかを見てみると、その多くはウェーハの加熱や硬化の過程で発生する無駄な熱だ。 従来の方法、つまり大規模な対流式オーブンを使う方...

熱との戦いをやめよう：より良いファブの運用方法 次世代のファブを構築する際、まず最初に考えるべきは、どのようにして加熱を行うかということです。私たちの多くは、もはや役に立たない古い方法を使い続けています。最近では、多くのエンジニアがその古い方法を捨てて、赤外線システムを採用しています。なぜでしょう...

なぜウェーハ加工に赤外線加熱を採用するのか 今、誰もがカーボンニュートラルについて話しています。半導体業界においては、それは私たちが物をどのように加熱するかを再考しなければならないという意味です。従来の方法、つまり大きな抵抗炉を使う方法は、まるでピザ1枚を温めるためだけに家全体を温めているようなも...

なぜ無鉛半導体には赤外線を使用するのか？ 半導体業界では、「グリーン」で無鉛の基準を追求しています。長い間、ウェーハを乾燥させたり、接着剤を硬化させるためには、大量の空気を加熱する対流式オーブンが使われてきました。 しかし正直、これは無駄な手段です。 だからこそ、私たちは短波長赤外線を利用するので...

なぜ無鉛チップには赤外線硬化が最適なのか 正直に言えば、対流式オーブンはもはや古い技術と言えます。私たちの多くは赤外線硬化を採用しており、それには正当な理由があります。巨大な金属製の箱を加熱するために莫大なエネルギーを浪費する代わりに、赤外線は直接基板を加熱します。 また、よりクリーンです。高温の...

IRを使ってウェーハを加熱する際の安全対策 正直に言って、高温の赤外線ランプと可燃性の溶剤を一緒に使うのは、大変危険な行為です。ウェーハの化学洗浄段階では、爆発性の蒸気のすぐ近くに発火源があるのは絶対に避けたいことです。 私たちは、これを解決するためのより良い方法を見つけました。開放型のランプの代...

リンスチェンバーをオーブンのように使わないでください ほとんどの赤外線ヒーターは、熱をあらゆる方向に放出します。つまり、360度全方位に熱が散らばります。狭い半導体リンスチェンバーでは、これは大きな問題を引き起こします。 熱が至る所に散らばると、装置の内壁がその熱を吸収してしまいます。すると、機械...

なぜ、真空状態での赤外線ヒーターに対して誘電体試験を行うのか？ 真空状態で赤外線ヒーターを使用する場合、物理法則が変わってしまいます。通常の空気中では、空気自体が絶縁材として機能します。しかし、その空気を取り除くと、アーク発生や電気的破壊のリスクが急激に高まります。これは全く別の問題です。 だから...

ウェーハ処理システムでの熱の無駄遣いを止めましょう。 シリコンウェーハを加熱するとき、1ワットというのも大切です。問題は、通常のステンレス製のケースがスポンジのように働き、過剰な赤外線エネルギーを吸収してしまうことです。これにより、電力が無駄に消費されるだけでなく、装置自体が巨大な放熱源になってし...

なぜIR加熱がグリーンスタンダードを達成するためのより優れた方法なのか グローブボックス内で作業を行う際、最も避けたいのは汚れです。熱は必要ですが、ウェーハの周りにほこりや粒子が飛び回るのは望ましくありません。だからこそ、私たちは赤外線加熱器を利用するのです。 空気を加熱するのではなく、赤外線は電...

ウェーハの硬化処理システムがオーブンのようになってしまうのを防ぎましょう。 IRランプの問題点は、熱があらゆる方向に放出されることです。360度全方位に放射されます。 半導体製造においては、ウェーハに当たらない熱は単なる無駄に過ぎません。しかし、それだけではありません。余分なエネルギーはどこかに行...

クラス100のクリーンルームを本当に清潔な状態に保つために もしクラス100のクリーンルームを運営しているなら、微粒子が発生するという問題はよくご存知でしょう。わずかな破片やヒーターから出るガスだけで、半導体の品質が著しく低下してしまいます。本当に厄介ですね。 そのため、私たちは通常のヒーターの使...

ガラス片の飛散を防ぎ、UHP加熱システムを安全に保つ 高負荷の半導体製造工場では、ヒーターランプが破損することは大きな問題です。停止時間が長くなるだけでなく、汚染も深刻な問題です。石英管が割れると、粒子が飛び散り、その結果、ウェハ全体がダメになってしまいます。 私たちは、そうした問題を避けるために...

なぜ、鉛を含まない製品を作るために赤外線硬化法を使うのか？ バイオセンサーを製造するには、いくつかのバランスを考えなければなりません。接着剤や各層を硬化させるためには十分な熱が必要ですが、熱を過度に与えると、敏感な基板が損傷してしまいます。 そのため、私たちは赤外線ランプを利用しています。赤外線は...

IR加熱と強制送風：どちらがあなたの製造現場に適しているのか？ もし今でも半導体の精密加工に熱風循環方式を使っているのであれば、待つ時間だけで多くの時間が無駄になっている可能性があります。 考えてみてください。強制送風方式では、わずかなウェーハを適切な温度にするために、部屋全体を加熱しなければなり...

半導体クリーンルームにおける赤外線加熱と熱風循環の比較 半導体の高度な加工を行うためのクリーンルーム用オーブンを選定する際、強制空気対流式と赤外線加熱式のどちらを選ぶかは、エネルギーをどのように伝達するかという点にかかっています。熱風方式では、基板の表面近くの境界層を利用して空気を加熱し、その空気...

なぜ電気漏れが水素センサーを壊すのか（そして、それを防ぐ方法） 水素センサーを製造する際には、触媒層を正しく活性化させるためには熱が不可欠です。正確な温度管理が必要であり、そうでなければ全てが台無しになってしまいます。私たちは、厳格な耐容範囲内でヒーターを作成していますが、実際に問題となるのは熱そ...

IR加熱を活用して、CNTの製造を効率的に行う方法 カーボンナノチューブを正しく成長させるためには、熱が不可欠です。触媒が正常に機能し、炭素が適切な場所に沈着するためには、温度を正確にコントロールする必要があります。高温すぎても低すぎてもダメです。 長年にわたり、半導体製造では従来の抵抗加熱方式が...

クラス100のクリーンルームを本当に清潔な状態に保つために クラス100のクリーンルームを運用する際、加熱はかなり厄介な問題です。重要なのは温度そのものではなく、目に見えない微粒子です。ほとんどの加熱素子は汚れており、加熱や冷却のたびに微小な粒子が放出されます。 私たちはより良い方法を考え出しまし...

熱の無駄遣いをやめよう：なぜ精密なアルミニウム製反射板が重要なのか 半導体製造の世界では、熱は最良の「味方」です。ただし、熱が本来あるべき場所以外に行ってしまうと問題になります。 高出力のIRランプを考えてみてください。そのエネルギーはまっすぐ前にしか進まず、あらゆる方向に散乱します。そのエネルギ...

無駄なエネルギーの消費をやめましょう ウェハを加熱するとき、単により多くのワット数を使えばいいというわけではありません。重要なのは、どれだけの電力を使うかではなく、その電力が実際にどこに向かうかです。 ほとんどの場合、エネルギーはチャンバーの壁に逃げてしまいます。これは無駄遣いです。だからこそ、金...

300mmウェーハを扱う際、リソグラフィー工程において最も重要なのが加熱装置です。AHUのヒーターの性能が悪くなると、バケィングプロセスのパフォーマンスも悪化し、欠陥検出装置が異常を検知する前から生産効率が低下してしまいます。私たちは、ウェーハがある場所でのみ熱環境を安定させるために、専用の空調・...

リソグラフィーの工程において、フォトレジストを加熱する際に半度ものずれが生じるというのは、些細な問題ではありません。これは、電気テスト時の歩留まりの低下や、再処理が必要となるほどの粒子の発生を引き起こします。ウェーハのIR加熱では、単に一定の温度に到達させるだけでなく、ウェーハ全体にわたって安定し...

ファブの現場では、フォトレジストを加熱する際に2℃でも温度が変動すれば、部品の寸法が変わってしまい、そのロット全体が廃棄処分になってしまいます。必要なのは「自分勝手に温度を変える」ような熱源ではなく、一定の温度を保てる熱源です。私たちが使用している石英製のハロゲンランプは、ウェーハやフォトレジスト...

300mmウェーハの場合、オーブン自体は安定しているように見えますが、ソフトベイク後でもフォトレジストのプロファイルには変動が生じます。その結果、エッチング時にウェーハ上の線幅にばらつきが生じ、それは結局、ウェーハ全体の温度分布の不均一性に起因しています。 多くの場合、問題の原因はドライヤーのラン...

製造現場では、チップ上での実験が進行中に乾燥工程がうまくいかないことがあります。チャネル内に汚れが溜まったり、300mmウェーハの歩留まりが低下したりします。ヒーターは室温ではなく、所定の条件に従って動作しなければなりません。 技術的に重要な点 私たちは、石英セラミックモジュール内にある短波赤外線...

300mmのウエハーがレールから外れてベイクモジュールの中に落ちていく様子を見てみましょう。フォトレジストは、すべてのダイにおいて、均一で正確な温度に保たれる必要があります。もし高温領域の温度が1℃でも変動したり、端の部分に低温域ができたりすると、重要な寸法の制御が乱れてしまいます。そうなると工程...

ファブの現場では、熱的な制約というものがあり、それを超えてはいけない。イムプラント処理後には、一定の精度で活性化温度に到達させる必要がある。これを逃すと、シート抵抗が変動し、結果としてデバイスの歩留まりが低下してしまう。 従来のホットプレート方式では、エッジ部分での性能低下やタイムラグが生じる。そ...

リソグラフィー工程においては、フォトレジストの焼成性能が線幅制御の鍵となります。ソフトベイクやハードベイク時に1℃の温度変動があるだけで、すぐにCDのばらつきが生じます。また、たった一つの粒子でもウェーハを破壊する可能性があります。TELヒーターランプは、そうした状況に対応するために設計されており...

製造現場において、ソフトベイクとハードベイクというのは、単なる温度設定段階ではありません。それは実際には許容範囲の設定でもあるのです。1℃の誤差であっても、ウェハの寸法精度に影響を与えますし、ホットスポットが発生すると、歩留まりが低下してしまいます。そのため、私たちは熱分布を正確に制御できるように...

ファブフロアにおいて、ポリイミド硬化は単なる熱処理の一工程ではない。寸法の精度を約束する工程である。ウェハー全体で数℃の温度の過不足があれば、応力分布が変わり、膜の反りを発生させ、歩留まりが仕様外にシフトする。私たちの手法はこの現実を踏まえて構築されている。重要箇所の温度を確実に保持しつつ、清浄度...

リソグラフィ工程では、ソフトベイクの温度がわずか0.5度ずれただけでCDバジェットに影響し、ハードベイクの温度がウェハ全体で均一でないとスカミングやフッティングが発生することをすぐに理解します。ラインがロットあたりの時間短縮を追求している場合、ランプの交換を待つ余裕はありません。 技術的に重要なポ...

Fabフロアでのポイント フォトレジストのベーク中に±0.5°Cのドリフトが発生すると、500枚のウェーハロットを廃棄する可能性があります。プロセスカードが指定する温度に厳密に熱を供給する必要があり、ロットごとにこれを繰り返さなければなりません。当社が運用しているNIRドライヤーバルブは、この現実...

LCDパネルファブフロアにおける熱ドリフト LCDパネルファブフロアでは、熱ドリフトは自らを告げることはありません。それは静かに歩留まりを蝕んでいきます。フォトレジストのソフトベークまたはハードベーク中に温度がわずかでもずれると、リソグラフィー、エッチング、堆積を通して続く寸法誤差を引き起こすこと...

ウェハー工程におけるベイクステップは単なる中断ではなく、制御のレバーである。ソフトベイクは溶剤を除去し、レジストのプロファイルを形成する。ハードベイクは接着を固定し、エッチングマスクを実体化する。ホットプレートの温度がわずか数度でも変動すれば即座に異変がわかる。CDシフト、クリティカルディメンショ...