IR加熱と強制送風：どちらがあなたの製造現場に適しているのか？ もし今でも半導体の精密加工に熱風循環方式を使っているのであれば、待つ時間だけで多くの時間が無駄になっている可能性があります。 考えてみてください。強制送風方式では、わずかなウェーハを適切な温度にするために、部屋全体を加熱しなければなりません。これは非常に遅く、非効率的です。また、温度が上昇するのを待つ間、ただじっとしているしかありません。 一方、IR加熱は全く異なります。空気を気にすることなく、エネルギーを直接基板に照射します。 とても速いのです。本当に速い。 これにより、作業プロセス全体が変わります。数分間待ってから温度が上がるのを待つ必要もなく、また、温度が急激に上昇するという問題もありません。IR加熱なら、数秒で目的の温度に到達します。 このような制御が可能になれば、ドーパントの拡散やウェーハの反りといった問題を心配する必要もありません。単純に作業を完了させるだけです。 しかし、高功率のランプをそのまま製造現場に置いておくわけにはいきません。すぐにフィラメントが壊れてしまいます。 そこで役立つのが石英ガラス製のシールドです。高純度の石英を使用するのは、短波長のIR放射線に対してほとんど影響を受けないからです。熱はすぐに通過しますが、ランプ自体は安全に保護されます。 ただし、このようなシールドも耐久性には限界があります。一瞬で極端な高温になります。もし適切でない種類の石英を使用すると、熱膨張に耐えられずに割れてしまいます。それだけです。 もちろん、IR加熱が魔法のようなものだとは言いません。欠点もあります。 放射線は方向性があるため、ランプの配置には細心の注意が必要です。数ミリメートルの誤差があっても、ウェーハに熱点ができてしまい、それを修正するのは大変です。 均一な温度を保つためには、反射器の形状やシールドの距離を正確に調整する必要があります。さらに、局所的な熱を処理できる冷却システムも必要です。さもなければ、筐体が反ってしまいます。 事前の計画が少し必要ですが、得られる速度の速さは素晴らしいものです。