製造現場では、チップ上での実験が進行中に乾燥工程がうまくいかないことがあります。チャネル内に汚れが溜まったり、300mmウェーハの歩留まりが低下したりします。ヒーターは室温ではなく、所定の条件に従って動作しなければなりません。
技術的に重要な点
私たちは、石英セラミックモジュール内にある短波赤外線エミッタを利用して、チップ上での乾燥用ヒーターを開発しました。迅速な応答性と低い熱容量という特徴があり、これこそが必要な性能です。ウェーハ全体の均一性は±0.1°C以内に保たれるため、フォトレジストのソフトベイクやハードベイクのプロセスも規格範囲内で行えます。
このヒーターは、クラス1～100の清浄室向けに設計されています。密閉された筐体やHEPAグレードの材料を使用し、連続稼働時でも粒子の発生がありません。再現性が非常に高く、設定温度と実際の温度の差はサイクルごとに狭い範囲内に収まります。
なぜ私たちの業務に適しているのか
このヒーターは、ウェーハの洗浄後の均一な乾燥、リソグラフィー工程での安定した加熱、そして各ロット間での予測可能な熱管理を実現します。高い均一性により、フォトレジストの欠陥や端部分の問題が減少し、試作品の作成時間が短縮され、廃棄物も減ります。
また、エミッタが迅速に温度を調整し、過剰な温度上昇を防ぐため、エネルギー消費量も削減されます。24時間365日の稼働でも信頼性が証明されており、計画外の停止は一切ありません。
事前に知っておくべきこと
設置する際には、ツールのインターフェースを適合させ、プラットフォームの電圧やコネクタ仕様を確認する必要があります。サイズは標準的な処理ステーションに収まりますが、エミッタ周辺には空気の流れや粒子制御のためのスペースが必要です。
±0.1°Cという高い均一性を維持するために、定期的な校正が必要です。これは一回設定して忘れるようなものではなく、プロセス管理の一部です。