製造現場において、ソフトベイクとハードベイクというのは、単なる温度設定段階ではありません。それは実際には許容範囲の設定でもあるのです。1℃の誤差であっても、ウェハの寸法精度に影響を与えますし、ホットスポットが発生すると、歩留まりが低下してしまいます。そのため、私たちは熱分布を正確に制御できるように、ゾーンごとに独立して制御可能な赤外線加熱モジュールを開発しました。
技術的に重要な点 私たちは、迅速に反応するドライバーを備えた短波長の赤外線エミッターを使用しているため、必要な場所に、必要なタイミングで熱を供給できます。このモジュールは、個別に制御可能なゾーンに分かれているため、ウェハ全体の平均的温度ではなく、各ゾーンごとの温度を調整できます。実際には、ウェハ全体の温度のばらつきを±0.1℃以内に抑えることができ、フォトレジストの焼成プロファイルもサイクルごとに±0.5℃以内に抑えられます。また、石英を含まない構造や低ガス放出性の材料を使用しているため、ウェハ上に粒子が発生することがありません。これは、クラス1～100のクリーンルームでの作業に最適です。
なぜこれがリソグラフィーラインで有効か 計画外の停止は許されません。このゾーン別制御式の赤外線モジュールは、24時間365日動作し、計画外の停止は一切ありません。また、この熱管理システムは耐久性が高く、寿命は10,000時間以上です。構造もシンプルで、モジュール化されており、各ゾーンごとに制御可能です。
メリットは明らかです 設定温度に到達するまでの時間が短縮され、バッチ内の再現性が向上し、焼成時の不均一さによる廃棄ウェハの数も減少します。また、エネルギー消費も削減されます。ゾーン別制御により、調整が必要な部分だけを加熱することができるからです。
注意すべき点 設置には専用の電力回路と、エミッターの温度を安定させるための清潔で冷たい空気の流れが必要です。このモジュールは既存の焼成装置とも簡単に接続できますが、エッジ効果を補正するためのゾーン補償機能を活用すれば、さらに効果的です。
ただし、1フレームあたりのゾーン数は固定されているため、ウェハのサイズやエッジ制御のニーズに合わせて、事前にゾーンを配置する必要があります。