停止给墙壁加热吧——把热量集中在晶圆上才对。
说实话，在半导体制造厂里，无法控制的温度简直就是一场噩梦。如果你使用的是传统的对流式加热器或全方位加热器，那你肯定已经注意到这个问题了：热量并非只作用于晶圆上，而是会扩散到整个腔室中。这样一来，腔室的内壁就会变得极其灼热。这不仅浪费了能源，还会对在机器附近工作的人员构成安全隐患。既然我们关心的只是硅片，那又何必浪费精力去加热整块金属呢？
解决之道就是使用定向红外线加热器。
与其让热量像灯泡那样向四周散射，不如用反射器将能量引导到特定方向。这就好比从照亮整个房间的灯，转变为只能照亮目标物体的手电筒。这样就能避免“烤箱效应”了。因为光线是集中的，所以红外线不会四处乱窜，也不会渗透到腔室壁上。即便在干燥区域产生高温以去除晶圆上的水分时，你仍然可以触摸到机器的外壳，发现它仍然是凉的。
不过，这并不是什么神奇的解决办法。还是有一些细节需要注意的。精度非常重要。如果灯具的照射角度有哪怕几度的偏差，热量就不会作用于晶圆，而是会作用于机器的壳体上。因此，必须使用稳定的安装支架来确保光束能准确指向目标位置。另外，还有热量密度的问题。当所有能量都集中在一处时，灯丝的温度会非常高。因此，必须确保冷却风扇能够正常工作。如果灯头得不到足够的散热，石英外壳就可能会破裂，那样就会酿成大麻烦。
不过，这样的做法确实值得。虽然能耗会降低，但真正的好处在于无需再担心操作人员在维护或安装晶圆时会被烫伤。你可以把热量精确地集中在需要的地方，而不会影响到其他地方。