なぜ半導体製造において熱風を使わなくなっているのか もし、クリーンルームの設備をアップグレードする作業を経験したことがあれば、温度上昇に伴う苦労をご存知でしょう。これは、どうしても時間がかかる工程です。 多くの古い工場では依然として熱風を利用しています。しかし問題は、まず空気を加熱し、その後、その...

壁を加熱するのはやめましょう。代わりにウェーハを加熱しましょう。 正直に言えば、半導体製造工場では、制御されない熱は大変な問題です。 もし従来型の対流式ヒーターや全方位に熱を放つヒーターを使っているなら、その問題に気づいているはずです。エネルギーがウェーハだけでなく、チャンバー全体に行き渡ってしま...

熱との戦いをやめよう：より良いファブの運用方法 次世代のファブを構築する際、まず最初に考えるべきは、どのようにして加熱を行うかということです。私たちの多くは、もはや役に立たない古い方法を使い続けています。最近では、多くのエンジニアがその古い方法を捨てて、赤外線システムを採用しています。なぜでしょう...

ウェーハ処理システムでの熱の無駄遣いを止めましょう。 シリコンウェーハを加熱するとき、1ワットというのも大切です。問題は、通常のステンレス製のケースがスポンジのように働き、過剰な赤外線エネルギーを吸収してしまうことです。これにより、電力が無駄に消費されるだけでなく、装置自体が巨大な放熱源になってし...

IR加熱と強制送風：どちらがあなたの製造現場に適しているのか？ もし今でも半導体の精密加工に熱風循環方式を使っているのであれば、待つ時間だけで多くの時間が無駄になっている可能性があります。 考えてみてください。強制送風方式では、わずかなウェーハを適切な温度にするために、部屋全体を加熱しなければなり...

クラス100のクリーンルームを本当に清潔な状態に保つために クラス100のクリーンルームを運用する際、加熱はかなり厄介な問題です。重要なのは温度そのものではなく、目に見えない微粒子です。ほとんどの加熱素子は汚れており、加熱や冷却のたびに微小な粒子が放出されます。 私たちはより良い方法を考え出しまし...

300mmウェーハを扱う際、リソグラフィー工程において最も重要なのが加熱装置です。AHUのヒーターの性能が悪くなると、バケィングプロセスのパフォーマンスも悪化し、欠陥検出装置が異常を検知する前から生産効率が低下してしまいます。私たちは、ウェーハがある場所でのみ熱環境を安定させるために、専用の空調・...

300mmのウエハーがレールから外れてベイクモジュールの中に落ちていく様子を見てみましょう。フォトレジストは、すべてのダイにおいて、均一で正確な温度に保たれる必要があります。もし高温領域の温度が1℃でも変動したり、端の部分に低温域ができたりすると、重要な寸法の制御が乱れてしまいます。そうなると工程...

ファブフロアにおいて、ポリイミド硬化は単なる熱処理の一工程ではない。寸法の精度を約束する工程である。ウェハー全体で数℃の温度の過不足があれば、応力分布が変わり、膜の反りを発生させ、歩留まりが仕様外にシフトする。私たちの手法はこの現実を踏まえて構築されている。重要箇所の温度を確実に保持しつつ、清浄度...

LCDパネルファブフロアにおける熱ドリフト LCDパネルファブフロアでは、熱ドリフトは自らを告げることはありません。それは静かに歩留まりを蝕んでいきます。フォトレジストのソフトベークまたはハードベーク中に温度がわずかでもずれると、リソグラフィー、エッチング、堆積を通して続く寸法誤差を引き起こすこと...