在300毫米光刻线路上，烘箱的运行状态似乎很稳定，但在软烘处理之后，光阻层的厚度仍会发生变化。这会导致蚀刻过程中线宽出现偏差，而问题的根源就在于晶圆表面的温度不均匀。 通常，造成这种情况的原因是干燥灯的问题——灯的组件会老化，其输出功率也会发生变化，同时还会出现局部过热现象，而这些都是控制器无法解...

在晶圆厂车间，你清楚流程要求。光刻胶烘烤过程中±0.5°C的温度漂移足以报废一个500片晶圆批次。你需要的加热必须严格符合工艺卡上的要求，每批次均如此。我们使用的NIR干燥灯泡正是基于这一需求设计——在Class 1–100洁净室环境下，能够实现稳定、可重复的热性能，日复一日。 核心技术特点 它将...