Below you will find pages that utilize the taxonomy term “열기” 웨이퍼용 고정밀 열처리 리소그래피 공정에서, 포토레지스트를 가열할 때 발생하는 0.5도 정도의 온도 변동은 결코 사소한 문제가 아닙니다. 이러한 오차는 전기 테스트 시 수율 저하로 나타나며, 불순물이 생겨서 재가공이 필요하게 됩니다. 웨이퍼의 적외선 가열은 단순히 일정한 온도를 유지하는 것... Read more...
웨이퍼용 고정밀 열처리 리소그래피 공정에서, 포토레지스트를 가열할 때 발생하는 0.5도 정도의 온도 변동은 결코 사소한 문제가 아닙니다. 이러한 오차는 전기 테스트 시 수율 저하로 나타나며, 불순물이 생겨서 재가공이 필요하게 됩니다. 웨이퍼의 적외선 가열은 단순히 일정한 온도를 유지하는 것... Read more...