ウェーハの汚染を未然に防こう 正直言って、高負荷の半導体製造ラインで赤外線ランプが壊れるのは本当に最悪な状況です。 単にヒーターが停止するだけではありません。石英管が壊れると、ガラスの破片や化学物質がウェーハの表面に散乱します。一度壊れてしまうと、そのロット全体が無駄になってしまいます。 私たちは...

ガラスの破片が降り注ぐのを防ぐ：IR乾燥時にウェーハを清潔に保つ方法 MEMSセンサーの製造において、赤外線ランプが故障すると大変なことになります。それは単なる部品の故障ではなく、まさに災害です。 高圧下で石英管が割れると、ガラスの破片やタングステンフィラメントがウェーハ上に降り注ぎます。一度故障...

ウェーハ処理における二酸化炭素削減（正気を保ちながら） 現在、すべての半導体工場は、ネットゼロ目標を達成するために苦労している。しかし、実際にエネルギーがどこで消費されているかを見てみると、その多くはウェーハの加熱や硬化の過程で発生する無駄な熱だ。 従来の方法、つまり大規模な対流式オーブンを使う方...

なぜウェーハ加工に赤外線加熱を採用するのか 今、誰もがカーボンニュートラルについて話しています。半導体業界においては、それは私たちが物をどのように加熱するかを再考しなければならないという意味です。従来の方法、つまり大きな抵抗炉を使う方法は、まるでピザ1枚を温めるためだけに家全体を温めているようなも...

IRを使ってウェーハを加熱する際の安全対策 正直に言って、高温の赤外線ランプと可燃性の溶剤を一緒に使うのは、大変危険な行為です。ウェーハの化学洗浄段階では、爆発性の蒸気のすぐ近くに発火源があるのは絶対に避けたいことです。 私たちは、これを解決するためのより良い方法を見つけました。開放型のランプの代...

ウェーハの硬化処理システムがオーブンのようになってしまうのを防ぎましょう。 IRランプの問題点は、熱があらゆる方向に放出されることです。360度全方位に放射されます。 半導体製造においては、ウェーハに当たらない熱は単なる無駄に過ぎません。しかし、それだけではありません。余分なエネルギーはどこかに行...

リソグラフィーの工程において、フォトレジストを加熱する際に半度ものずれが生じるというのは、些細な問題ではありません。これは、電気テスト時の歩留まりの低下や、再処理が必要となるほどの粒子の発生を引き起こします。ウェーハのIR加熱では、単に一定の温度に到達させるだけでなく、ウェーハ全体にわたって安定し...

300mmウェーハの場合、オーブン自体は安定しているように見えますが、ソフトベイク後でもフォトレジストのプロファイルには変動が生じます。その結果、エッチング時にウェーハ上の線幅にばらつきが生じ、それは結局、ウェーハ全体の温度分布の不均一性に起因しています。 多くの場合、問題の原因はドライヤーのラン...

300mmのウエハーがレールから外れてベイクモジュールの中に落ちていく様子を見てみましょう。フォトレジストは、すべてのダイにおいて、均一で正確な温度に保たれる必要があります。もし高温領域の温度が1℃でも変動したり、端の部分に低温域ができたりすると、重要な寸法の制御が乱れてしまいます。そうなると工程...