در فرآیند لیتوگرافی، انحراف نیم درجهای در حین گرمایش فوتورزیست، موضوع جزئی نیست؛ زیرا منجر به کاهش کیفیت محصول در آزمایشات الکتریکی میشود. همچنین، این انحرافات باعث افزایش تعداد ذرات ناخواسته در سطح ویفر میشود که نیازمند بازسازی مجدد است. گرمایش ویفر با استفاده از امواج مادون قرمز باید به گونهای باشد که گرمای یکنواختی در سراسر ویفر ایجاد شود، بدون اینکه باعث آلودگی آن شود.
چه چیزهایی اهمیت دارند؟
ما سیستم گرمایشی مادون قرمز ویفر را با استفاده از فرستندههای مادون قرمز کوتاهامواج در یک ماژول تقویتشده با کوارتز ساختهایم؛ این سیستم برای پاسخدهی سریع و کنترل دقیق دما مناسب است. در ویفرهای ۳۰۰ میلیمتری، ما توانستیم یکنواختی دما را در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد حفظ کنیم؛ همچنین، تکرارپذیری عملکرد سیستم نیز در محدوده چند میلیدرجه باقی میماند. این سیستم با استفاده از موادی با میزان گاز خروجی کم و سیستم تهویه کنترلشده، مناسب برای استفاده در اتاقهای پاک است. عدم تولید هیچ ذرهای نیز نتیجه کنترل دقیق سطح ویفر و استفاده از روشهای مناسب برای خارج کردن محصولات جانبی فوتورزیست است.
در فرآیند فوتورزیست، گرمایش ملایم باعث حذف محلولها و کنترل تنشهای روی لایه فوتورزیست میشود؛ در حالی که گرمایش شدید، لایه فوتورزیست را برای فرآیند حکاکی آماده میکند. وقتی که امواج مادون قرمز به سرعت به هدف برسند و دما نیز ثابت بماند، میتوانیم زمان عملیات را کاهش دهیم، بدون اینکه کنترل کیفیت لایه فوتورزیست به هم بخورد.
کنترل دقیق دما، منجر به کاهش تعداد محصولات نیازمند بازسازی، کیفیت یکنواختتر محصولات، و کاهش مصرف انرژی میشود. این سیستم ۲۴/۷ کار میکند و با فواصل زمانی منظم برای نگهداری، دچار اختلالات غیرمنتظره نمیشود؛ بنابراین برنامههای تولید نیز پایدار باقی میماند.
گرمایش با دقت بالا، به تفاوتهای در صدد تابشی لایهها و سطوح مختلف حساس است؛ بنابراین باید توان لامپها و پروفایلهای گرمایشی برای هر سطح مشخص شود. همچنین، باید اطمینان حاصل شود که این سیستم با رابطهای مربوط به دستگاههای روکشداری هماهنگ است.
البته، فرآیند تنظیم اولیه سیستم زمانبر است؛ اما پس از تعیین پارامترهای لازم، فرآیند تولید با بررسیهای دورهای توان لامپ و دما، در محدوده استانداردها باقی خواهد ماند.