در کارخانههای تولید، محدودیتهای حرارتی، خطوط قرمزی هستند که نباید از آنها تجاوز شود. پس از فرآیند ایمپلنت، باید دمای لازم برای فعالسازی دستگاه، با دقت مناسبی حاصل شود؛ در غیر این صورت، مقاومت الکتریکی دستگاه تغییر میکند و در نتیجه بازدهی دستگاه کاهش مییابد.
روشهای سنتی استفاده از تختهای گرم، باعث کاهش کیفیت و ایجاد تأخیر در فرآیند تولید میشوند؛ بنابراین، فرصت فعالسازی دستگاه به سرعت کاهش مییابد.
آنچه در پشت صحنه اهمیت دارد
ما فرآیند فعالسازی ناخالصیها را بر اساس استفاده از ساطعکنندههای هالوژنی موج کوتاه و طراحی حرارتی مبتنی بر کوارتز، انجام دادیم. انرژی به طور مستقیم و سریع وارد ویفر میشود؛ در کل ویفر ۳۰۰ میلیمتری، یکنواختی دما در حد ±۰٫۱ درجه سانتیگراد حفظ میشود. این امر باعث میشود که وضعیت حرارتی در تمام مراحل فرآیند یکنواخت باقی بماند.
کلاسهای سالنهای تمیز ۱ تا ۱۰۰ نیز در ساختار دستگاه لحاظ شدهاند؛ موادی با میزان گاز خروجی کم، رابطهای بسته در محفظهها، و عدم تولید ذرات، باعث میشود که تعداد ذرات در طول فرآیندهای لیتوگرافی و اتاقه، ثابت بماند. این سیستم ۲۴/۷ کار میکند و هیچ توقف غیرمنتظرهای ندارد؛ همچنین، سیستم کنترلی دمای حرارتی را در حد ±۰٫۲ درجه سانتیگراد کنترل میکند، تا ابعاد حساس دستگاه حفظ شوند.
چرا این روش در تولیدات انبوه مفید است
شما به یکپارچگی فرآیند تولید در میان سریهای مختلف نیاز دارید؛ گرمکنهای مادون قرمز ما، زمان فرآیند فعالسازی را کاهش میدهند، در حالی که استرس حرارتی را کنترل میکنند؛ بنابراین، پروفایلهای فوتورزیست در پس از فرآیندهای حرارتی، پایدار باقی میمانند.
تعداد کارهای تکراری کمتر میشود؛ توزیع مقاومت الکتریکی دقیقتر میشود؛ مصرف انرژی برای هر ویفر کاهش مییابد. در خطوط تولید انبوه، این امر به معنای بهبود بهرهوری و کاهش هزینهها است.
نکاتی که باید در نظر گرفت
نصب دستگاه نیازمند تنظیمات دقیق اپتیکی و وجود مسیرهای مناسب برای خروج گازها است؛ توان گرمکن نیز باید بر اساس نوع ویفر و لایههای مربوطه تنظیم شود.
ما روشهای مربوط به کاربردهای مختلف را فراهم میکنیم، اما شما همچنان باید قبل از شروع کار، فرآیندهای ایمپلنت و آنیلینگ را آزمایش کنید. پس از تنظیم، سیستم بسیار قابل اعتماد خواهد بود؛ اما این مرحله ضروری است.