Trong quy trình in ấn bằng phương pháp lithography, việc xảy ra sai lệch 0,5 độ trong quá trình nung phim fotoresist không phải là vấn đề nhỏ. Điều này dẫn đến tỷ lệ sản phẩm bị lỗi trong các bài kiểm tra điện tử, và cũng gây ra sự xuất hiện của các hạt bụi mà chúng ta phải loại bỏ thông qua quy trình tái chế. Việc sử dụng nguồn nhiệt từ tia hồng ngoại để nung wafer cần phải đảm bảo rằng nhiệt độ được duy trì ổn định trên toàn bộ bề mặt wafer, mà không gây ra sự ô nhiễm.
Những yếu tố quan trọng Chúng tôi thiết kế hệ thống nhiệt từ tia hồng ngoại dựa trên các bóng đèn phát tia hồng ngoại ngắn波, được tích hợp trong một mô-đun bằng thạch anh, giúp kiểm soát nhiệt độ một cách chính xác và nhanh chóng. Trên một wafer có kích thước 300 mm, chúng tôi có thể duy trì độ đồng đều về nhiệt độ trong khoảng ±0,1°C; độ lặp lại giữa các lần nung cũng ở mức vài miligrad. Buồng xử lý phải đáp ứng tiêu chuẩn của phòng sạch từ cấp độ 1 đến cấp độ 100, với việc sử dụng vật liệu ít phát khí và hệ thống dẫn khí kiểm soát được lượng bụi. Việc loại bỏ hoàn toàn bụi bẩn không phải là điều dễ dàng; điều này phụ thuộc vào chất lượng bề mặt wafer, cách đóng kín buồng xử lý, và chiến lược xử lý khí thải nhằm ngăn chặn việc các chất thải từ phim fotoresist tích tụ trở lại.
Trong quy trình xử lý phim fotoresist, giai đoạn nung nhẹ giúp loại bỏ chất dung môi và tạo ra áp lực lên lớp phim; còn giai đoạn nung mạnh thì giúp chuẩn bị lớp phim cho quá trình etch. Khi nguồn nhiệt từ tia hồng ngoại tác động nhanh chóng và ổn định lên lớp phim, chúng ta có thể rút ngắn thời gian xử lý mà vẫn duy trì được chất lượng sản phẩm.
Việc kiểm soát nhiệt độ chính xác giúp giảm số lượng sản phẩm cần được tái chế, tăng độ đồng đều của các thông số kỹ thuật, và giảm lượng năng lượng tiêu thụ. Hệ thống này có thể hoạt động 24/7 với các khoảng thời gian bảo trì được lên kế hoạch rõ ràng, nhờ đó giảm thiểu thời gian ngưng máy và đảm bảo lịch trình sản xuất ổn định.
Hệ thống nhiệt từ tia hồng ngoại có độ nhạy cao đối với sự khác biệt về độ phát xạ ánh sáng giữa các lớp phim và bề mặt nền. Do đó, cần điều chỉnh công suất đèn và các thông số liên quan cho từng loại bề mặt nền, đồng thời đảm bảo sự phối hợp chặt chẽ với các thiết bị phủ lớp phim.
Quá trình kiểm tra ban đầu cần thời gian. Nhưng một khi các thông số đã được xác định rõ, quy trình xử lý sẽ diễn ra đúng theo tiêu chuẩn, thông qua các cuộc kiểm tra định kỳ về công suất đèn và nhiệt độ.