ویفرز کے آلودہ ہونے سے بچنے کے لئے، اس کے شروع ہونے سے پہلے ہی اقدامات کرنا ضروری ہے۔ ایمانداری سے کہیں تو، ہائی-لاڈ سیمی کنڈکٹر پروڈکشن لائنوں میں...

شیشے کی بوندوں سے بچنے کے لئے: IR خشک کرنے کے عمل میں اپنے ویفروں کو صاف رکھنا ضروری ہے۔ MEMS سینسرز کی تیاری کے دوران، انفرا ریڈ لیمپوں کا خراب ہونا...

ویفر پروسیسنگ میں کاربن کے اخراج کو کم کرنا (بغیر ذہنی دباؤ کے) فی الحال، ہر سیمی کنڈکٹر فیکٹری کو اپنے “نیٹ-زیرو” اہداف حاصل کرنے کے لئے بہت دباؤ کا...

ہم ویفرز کی پروسیسنگ کے لئے IR حرارت کا استعمال کیوں کر رہے ہیں؟ فی الوقت ہر کوئی کاربن نیوٹرلٹی کی بات کر رہا ہے، اور سیمی کنڈکٹر صنعت میں اس کا...

آئی آر لائٹس کی مدد سے ویفرز کو گرم کرتے وقت احتیاطی تدابیر اظہارِ حقیقت کرنا ضروری ہے: اعلی درجہ حرارت والی آئی آر لائٹس کو قابل اشتعال مادوں کے...

اپنے ویفر کو پکانے والے سسٹم کو “اوون” میں تبدیل ہونے سے روکیں۔ آئی آر لیمپس کا مسئلہ یہ ہے کہ یہ ہر سمت میں حرارت پیدا کرتے ہیں، یعنی 360 ڈگری پر...

لیتھوگرافی کے عمل میں، فوٹوریزسٹ کو گرم کرنے کے دوران آدھے ڈگری کا فرق کوئی معمولی خرابی نہیں ہے۔ اس کی وجہ سے برقی ٹیسٹوں میں ناکامی ہوتی ہے، اور...

300 ملی میٹر لائن پر، اوون ساختی طور پر مستحکم دکھائی دیتا ہے، لیکن “فوٹوریزسٹ” کی خصوصیات نرم بیکنگ کے بعد بھی تبدیل رہتی ہیں۔ اس کی وجہ سے ایچنگ کے...

دیکھیں کہ 300 ملی میٹر والا ویفر ٹریک سے نیچے گرکر بیک ماڈیول میں داخل ہو رہا ہے۔ فوٹوریزسٹ کو مناسب درجہ حرارت پر پہنچنا ضروری ہے؛ یعنی ہر جگہ درجہ...