Pemanasan IR berbanding Udara Terpaksa: Yang mana satu lebih sesuai untuk proses pembuatan semikonduktor anda?
Jika anda masih menggunakan kaedah pemanasan udara untuk proses pemprosesan semikonduktor, kemungkinan besar anda menghabiskan terlalu banyak masa menunggu agar suhu mencapai tahap yang diinginkan.
Fikirkanlah. Dengan kaedah udara terpaksa, anda perlu memanaskan seluruh bilik tersebut hanya untuk memanaskan wafer tersebut hingga ke suhu yang tepat. Prosesnya sangat lambat. Selain itu, terdapat juga masalah kelewatan dalam proses pemanasan tersebut.
Pemanasan IR pula merupakan cara yang berbeza. Ia tidak memerlukan penggunaan udara sama sekali. Energi panas disalurkan terus ke permukaan wafer tersebut. Ia sangat cepat.
Ini tentunya mengubah segalanya dalam proses kerja anda. Anda tidak perlu menunggu bertahun-tahun agar suhu mencapai tahap yang diinginkan. Anda juga tidak perlu risau tentang masalah suhu yang melonjak secara tiba-tiba. Dengan pemanasan IR, semuanya dapat diselesaikan dalam masa beberapa saat sahaja.
Dengan kawalan seperti ini, anda tidak perlu risau lagi tentang penyebaran bahan kimia atau pembengkakan wafer. Anda boleh menyelesaikan tugas tersebut dengan mudah.
Namun, anda tidak boleh sekadar meletakkan lampu berkuasa tinggi di dalam fasiliti pembuatan semikonduktor. Ini akan merosakkan filamen lampu tersebut dengan cepat.
Di sinilah peranan pelindung kaca kuarsa. Kita menggunakan kaca kuarsa berkualiti tinggi kerana ia hampir tidak membiarkan radiasi IR masuk ke dalamnya. Panas dapat meresap melalui kaca tersebut, tetapi lampu tetap selamat dan terlindung daripada kesan buruk akibat radiasi tersebut.
Namun, pelindung tersebut juga boleh rosak. Suhunya boleh naik dengan cepat dari sejuk menjadi sangat panas. Jika anda menggunakan kaca kuarsa yang tidak berkualiti, ia akan retak. Sangat mudah.
Saya bukan bermaksud bahawa pemanasan IR merupakan penyelesaian yang sempurna. Ia mempunyai kelemahannya sendiri.
Oleh kerana radiasi IR bersifat direksional, anda perlu memastikan posisi lampu tersebut tepat. Jika ada sedikit kesilapan, ini akan menyebabkan titik panas pada wafer tersebut, dan ini merupakan masalah yang sukar untuk diselesaikan.
Anda perlu memastikan geometri reflektor serta jarak antara reflektor dan pelindung tepat agar suhu dapat dikawal dengan baik. Selain itu, anda juga memerlukan sistem penyejukan yang mampu menghadapi suhu yang tinggi tersebut. Jika tidak, rangka fasiliti tersebut akan membengkak.
Memang memerlukan perancangan yang teliti, tetapi kelajuan yang diperoleh adalah kelebihan yang sebenar.