Pada baris pengeluaran sepanjang 300 mm, unit litografi merupakan komponen yang paling penting. Jika suhu pemanas AHU berubah, maka profil pemanasan juga akan berubah—dan ini akan menyebabkan penurunan kualiti produk sebelum alat pengesan kecacatan dapat mengesan masalah tersebut. Kami mencipta modul pemanas untuk sistem pengudaraan kilang ini agar medan haba tetap stabil, tepat di kawasan wafer.
Apa yang penting di sebaliknya
Kami memastikan keseragaman suhu sekitar ±0.1°C dalam aliran udara yang digunakan, supaya keadaan udara yang masuk ke plat pemanasan tetap konsisten. Modul ini beroperasi dalam bilik bersih kelas 1–100, tanpa adanya zarah debu sama sekali, seperti yang disahkan melalui pemantauan debu secara langsung. Pemanas ini menggunakan bahan yang tidak mengeluarkan gas berbahaya, dan laluan habanya juga tertutup rapat, sehingga tidak akan ada pencemaran semasa proses pemanasan. Keluaran tenaga modul ini direka untuk operasi 24/7 dengan kadar kenaikan suhu yang terkawal. Ia juga boleh disambungkan ke sistem kawalan AHU yang sedia ada melalui antaramuka industri biasa.
Yang penting untuk diketahui ialah proses pemanasan fotoresist bukanlah proses yang sederhana—itu merupakan langkah penting dalam proses pembuatan wafer. Walaupun perubahan suhu yang kecil sekalipun boleh menyebabkan perubahan dimensi wafer yang ketara. Kami memastikan suhu di permukaan wafer tetap stabil, agar proses pemanasan berjalan secara konsisten dari satu batch ke batch yang lain. Ini akan membantu mengurangkan keperluan untuk melakukan proses pembuatan semula, serta memberikan kawalan suhu yang lebih baik. Kecekapan juga akan meningkat, kerana tenaga tidak akan dibazirkan pada proses koreksi suhu yang berulang-ulang.
Semasa pemasangan, perlu diperhatikan arah aliran udara dan toleransi tekanan statik AHU. Saluran udara yang tidak sesuai boleh menyebabkan turbulensi mikro yang merosakkan keseragaman suhu. Modul ini juga memerlukan bekalan kuasa yang bersih—fluktuasi voltan boleh menyebabkan turun naik suhu yang tidak diingini. Rancang masa pelancaran modul ini dengan teliti, dan pastikan profil suhu yang dihasilkan sesuai dengan spesifikasi wafer yang digunakan.