Sur une ligne de 300 mm, la salle de lithographie est l’élément essentiel. Si le chauffage de l’AHU ne fonctionne pas correctement, le profil de séchage en est affecté – et la qualité des produits diminue longtemps avant que le détecteur de défauts ne signale quoi que ce soit. Nous avons conçu notre module de chauffage pour maintenir un champ thermique stable, justement là où c’est important : directement sur la wafer.
Ce qui est crucial en interne Nous maintenons une uniformité thermique de ±0,1 °C dans le flux d’air, afin que la plaque de séchage dispose de conditions constantes. Ce module fonctionne dans des salles propres de classe 1–100, sans aucune génération de particules, ce qui est confirmé par un suivi en temps réel des particules. Le chauffage utilise des matériaux à faible émission de gaz et un circuit thermique hermétique, ce qui évite toute contamination pendant les processus de séchage. La puissance produite permet un fonctionnement 24/7, avec des taux de rampage contrôlés. Le module s’intègre facilement aux systèmes de contrôle existants grâce à des interfaces industrielles standards.
Le séchage du photorésiste n’est pas une étape simple : c’est plutôt une étape cruciale pour garantir la précision des dimensions des composants. Même de petites fluctuations de température peuvent entraîner des variations significatives dans les dimensions des composants. Nous maintenons donc la température constante au niveau de la wafer, afin que le processus de séchage reste constant d’un lot à l’autre. Cela permet un meilleur contrôle des dimensions, moins de réparations, et un budget thermique prévisible. L’efficacité également s’améliore, car on évite de gaspiller de l’énergie dans des cycles de correction inutiles.
L’installation nécessite une attention particulière quant à la direction du flux d’air et aux tolérances de pression statique de l’AHU. Des conduits mal adaptés créent des micro-turbulences qui perturbent l’uniformité du champ thermique. Le module nécessite également une alimentation électrique propre : les fluctuations de tension entraînent des variations de température à court terme. Il convient donc de planifier correctement le processus de mise en service, en tenant compte des spécificités du processus de séchage et du type de photorésiste utilisé.