Высокоточное нагревание для ИК процессов с использованием кристаллов типа вафер
На этапе литографии даже небольшое смещение температуры в половину градуса во время обработки фотополимера является серьезной проблемой. Это приводит...
Лампа для сушильной платы DNS (Screen)
На линии производства с длиной линий 300 мм печь кажется стабильной, но профиль свойств фотополимера все равно меняется после процедуры мягкой...
Отверждение полиимида для производства пластин
На производственном участке отверждение полиимидов — это не просто очередной термический этап. Это обещание по размеру. Отклоните температуру всего...
Светильник с нагревателем для пластин с быстрой доставкой
На литографическом этаже быстро понимаешь: смещение температуры мягкой сушки всего на полградуса влияет на бюджет CD, а неравномерный твёрдый запек...
Высокоэффективная лампа для сушки пластин
На производственном участке вы знаете процедуру. Отклонение ±0,5°C во время сушки фоторезиста достаточно, чтобы списать лот из 500 пластин....