
На этапе литографии даже небольшое смещение температуры в половину градуса во время обработки фотополимера является серьезной проблемой. Это приводит к снижению качества изделий при электрических испытаниях, а также к появлению частиц, которые необходимо устранять путем повторной обработки. Нагрев волнового диапазона инфракрасного света должен обеспечивать стабильную и однородную температуру на всей поверхности пластины, без возникновения загрязнений.
Что имеет значение на самом деле? Мы разработали систему нагрева на основе галогеновых излучателей короткой длины волны в модуле с кварцевым наполнителем, что обеспечивает быстрый отклик и точный контроль температуры. На пластине размером 300 мм мы поддерживаем однородность температуры в пределах ±0,1°C, а ее стабильность между последовательными процессами остается на уровне нескольких миллиградусов. Камера соответствует стандартам чистых помещений от класса 1 до класса 100; используются материалы с низким уровнем выделения газов, а также система управления потоком воздуха, которая минимизирует количество частиц. Отсутствие частиц – это не просто слоган; это результат правильного выбора материалов для обработки поверхности, а также эффективной системы вентиляции, которая предотвращает повторное осаждение побочных продуктов фотополимера.
В процессе обработки фотополимера первичная обработка способствует удалению растворителей и снижению напряжения в пленке, а вторичная обработка готовит пленку к процедуре гравировки. Если инфракрасное излучение достигает цели быстро и сохраняется на стабильном уровне, можно сократить время обработки без потери контроля над параметрами процесса.
Более точный контроль температуры означает меньше необходимости в повторной обработке, более стабильные характеристики изделий и меньшие затраты энергии. Система работает круглосуточно с предсказуемыми интервалами технического обслуживания, что снижает вероятность непланированных простоев и обеспечивает стабильность производства.
Высокоточный нагрев инфракрасным светом чувствителен к различиям в эмиссивности пленок и подложек. Необходимо настраивать мощность ламп и параметры времени нагрева для каждой подложки, а также учитывать совместимость с другими устройствами в процессе производства.
Конечно, первоначальная настройка требует времени. Но как только параметры процесса определены, он будет выполняться в пределах допусков благодаря регулярной проверке мощности ламп и температуры.