DNS (Screen) waferdrogerlamp
Op de 300mm-lijn ziet de oven er stabiel uit, maar het profiel van de fotoresist verandert nog steeds na een zachte bakbeurt. Hierdoor ontstaan...
Hoogwaardige waferdrogerlamp
Op de productievloer bent u bekend met de procedure. Een drift van ±0,5°C tijdens het bakken van de fotoresist is voldoende om een batch van 500...