Op de productielijn is het thermische budget een grens die niet mag worden overschreden. Na de implantatie moet de activatietemperatuur precies worden bereikt, met een nauwkeurige distributie van de warmte. Als dit niet lukt, verandert de weerstand van het materiaal. Hierdoor neemt ook de kwaliteit van de producten af.
Conventionele warmteplassen zorgen voor een daling van de efficiëntie en voor vertragingen in het proces. Het procesvenster wordt daardoor steeds kleiner.
Wat belangrijk is onder het oppervlak Wij hebben de activatie van de dopanten gebaseerd op kortegolflange halogeenemitters en een kwartsversterkt thermisch ontwerp. Energie komt rechtstreeks in het wafer terecht, snel en efficiënt. Op een volledig 300 mm groot wafer houden we de uniformiteit binnen ±0,1°C, met consistente profielen tijdens het proces. Dit zorgt ervoor dat de thermische omstandigheden constant blijven, vanaf het begin tot het einde van het proces.
De cleanroomklasse 1–100 is integral onderdeel van het systeem: materialen met lage uitstoot, afgesloten interfaces en geen generatie van deeltjes zorgen ervoor dat het aantal deeltjes constant blijft tijdens de lithografie- en etapprocessen. Het systeem werkt 24/7 zonder onverwachte stilstanden. De controlearchitectuur houdt de temperatuur van de fotoresist binnen ±0,2°C, zodat de kritieke dimensies behouden blijven.
Waarom dit belangrijk is bij hoge volumes Je hebt herhaalbaarheid nodig, zodat de kwaliteit consistent blijft, ongeacht of je van het ene naar het andere product overgaat of van het ene naar het andere batch. Onze infraroodverwarmers verkorten de tijd die nodig is voor de activatiestappen, terwijl de thermische belasting onder controle blijft. Hierdoor blijven de profielen van de fotoresist stabiel na het proces.
Er zijn minder herwerkingsmomenten nodig. De weerstand van het materiaal is beter gereguleerd. Er wordt minder energie verbruikt per wafer. Op een productielijn met hoge volumes betekent dit dat je beter kunt plannen en dat de kosten per product lager zijn.
Wat je moet controleren Voor een goede werking is nauwkeurige optische alignering nodig, evenals een goed afgeschermde afvoerweg om de drukverschillen in de cleanroom te beperken. De output van de verwarmers moet worden aangepast aan de specifieke configuratie van het wafer en de films.
Wij leveren applicatie-specifieke instructies, maar je moet eerst de verschillende implantatietypes en annealprofielen testen. Eenmaal gekalibreerd, is het systeem zeer betrouwbaar. Maar deze instellingsschakel is niet optioneel.