Di proses litografi, pergeseran suhu sebesar setengah derajat selama proses pemanasan fotoresist bukanlah hal yang sepele. Hal ini akan berdampak pada penurunan kualitas produk saat diuji secara elektrik, serta munculnya partikel-partikel yang perlu diperbaiki melalui proses perbaikan ulang. Pemanasan menggunakan sinar inframerah harus dilakukan dengan cara yang stabil dan konsisten, sehingga suhu di seluruh permukaan wafer tetap terjaga, tanpa menimbulkan kontaminasi.
Apa yang penting dalam proses ini? Kami merancang sistem pemanasan inframerah ini menggunakan emitor inframerah gelombang pendek yang terletak dalam modul berbahan kuarsa. Modul ini dirancang untuk memberikan respons yang cepat dan kontrol suhu yang akurat. Pada wafer berukuran 300 mm, suhu dapat dikontrol hingga tingkat ±0,1°C, sedangkan tingkat repetibilitas antar sesi produksi hanya sekitar beberapa miliderajat saja. Ruang pengolahan ini cocok digunakan dalam lingkungan cleanroom bertingkat dari kelas 1 hingga kelas 100, karena menggunakan bahan-bahan yang menghasilkan gas minim, serta sistem aliran udara yang efektif untuk mengurangi jumlah partikel.
Penggunaan sistem pemanasan inframerah yang presisi sangat penting, karena hal ini mempengaruhi proses penghilangan pelarut dan tekanan pada lapisan fotoresist. Saat pemanasan berlangsung dengan cepat dan stabil, waktu proses dapat dikurangi tanpa mengorbankan kontrol kualitasnya.
Kontrol suhu yang lebih baik berarti lebih sedikit proses perbaikan ulang, kualitas produk yang lebih konsisten, serta penggunaan energi yang lebih efisien. Sistem ini dapat beroperasi 24/7 dengan jadwal pemeliharaan yang teratur, sehingga downtime tidak terjadi, dan jadwal produksi tetap stabil.
Pemanasan inframerah yang presisi sangat sensitif terhadap perbedaan emisivitas antara berbagai lapisan dan substrat. Oleh karena itu, perlu dilakukan penyetelan daya lampu dan profil pemanasan sesuai dengan jenis substrat yang digunakan. Selain itu, perlu juga dipastikan bahwa sistem tersebut sesuai dengan antarmuka yang digunakan dalam proses pelapisan.
Memang, proses penyesuaian awal membutuhkan waktu. Namun, setelah proses penyetelan selesai, proses produksi akan tetap berjalan sesuai standar, dengan pemeriksaan rutin terhadap output lampu dan kalibrasi suhu.