Pada jalur produksi berukuran 300 mm, bagian yang paling penting adalah unit litografi tersebut. Jika suhu pemanas AHU berubah, maka profil pemanasan pun akan berubah, dan hal ini akan menyebabkan penurunan kualitas produk jauh sebelum alat deteksi cacat dapat mendeteksikannya. Kami merancang modul pemanas AC khusus untuk menjaga stabilitas kondisi termal di titik yang penting, yaitu tepat di permukaan wafer.
Apa yang penting dalam proses ini? Kami memastikan adanya keseragaman suhu sebesar ±0,1°C di seluruh aliran udara yang digunakan untuk memanaskan wafer, sehingga kondisi masukan udara tetap konsisten. Modul ini beroperasi di ruang bersih kelas 1–100, di mana tidak ada partikel debu sama sekali, sebagaimana yang dibuktikan oleh pemantauan partikel secara langsung. Pemanas ini menggunakan bahan-bahan yang tidak mengeluarkan gas berbahaya, serta memiliki saluran panas yang tertutup rapat, sehingga tidak terjadi kontaminasi selama proses pemanasan. Daya keluaran modul ini dirancang agar dapat beroperasi 24/7 dengan laju peningkatan suhu yang terkendali. Modul ini juga dapat terintegrasi ke sistem kontrol AHU melalui antarmuka industri standar.
Yang perlu diperhatikan adalah arah aliran udara dan toleransi tekanan statis pada AHU. Jika saluran udaranya tidak sesuai, maka akan timbul turbulensi mikro yang merusak keseragaman suhu. Modul ini juga membutuhkan pasokan daya yang stabil; fluktuasi tegangan dapat menyebabkan perubahan suhu yang drastis. Anda perlu merencanakan waktu pemasangan modul ini sesuai dengan proses pemanasan wafer, dan memastikan bahwa profil suhu yang dihasilkan sesuai dengan spesifikasi bahan yang digunakan. Dengan demikian, kontrol dimensi wafer akan lebih baik, jumlah perbaikan akan berkurang, dan efisiensi proses pun akan meningkat.