
Nella sala di produzione, i processi di riscaldamento “soft” e “hard” non sono semplicemente fasi legate alla temperatura, ma rappresentano anche parametri legati alla tolleranza delle dimensioni dei componenti prodotti. Un’oscillazione di 1°C può compromettere le caratteristiche tecniche richieste, mentre la presenza di punti caldi può ridurre notevolmente la qualità del prodotto finale. Ecco perché abbiamo progettato moduli di riscaldamento a infrarossi suddivisi in zone separate: così si elimina il rischio di errori nel controllo della temperatura.
Cosa è importante dal punto di vista tecnico
Utilizziamo emettitori a onde corte a infrarossi, dotati di sistemi di controllo rapidi, in modo che il calore venga distribuito esattamente dove e quando è necessario. Il modulo è suddiviso in zone controllate indipendentemente l’una dall’altra; questo permette di regolare la temperatura su ogni singola area del wafer, invece di uniformarla su tutta la superficie. In pratica, ciò garantisce un livello di uniformità pari a ±0,1°C, mentre i profili di riscaldamento del fotorestist rimangono entro i limiti di ±0,5°C, ciclo dopo ciclo. La struttura senza quarzo e l’uso di materiali a bassa emissione di gas riducono la formazione di particelle sulla superficie del wafer, il che è fondamentale per operare in ambienti puliti di classe 1–100.
Perché funziona bene nelle linee di litografia
Non si può permettersi tempi di stopped non pianificati. Questo modulo a infrarossi funziona 24/7 senza interruzioni, e il sistema termico è progettato per durare più di 10.000 ore. È semplice da utilizzare, modulare e controllabile a livello di singole zone.
I vantaggi sono evidenti
Si ottiene un raggiungimento più rapido della temperatura desiderata, una maggiore ripetibilità tra i vari lotti, e meno wafer rovinati a causa di irregolarità nel processo di riscaldamento. Inoltre, si riduce anche il consumo energetico: il controllo per zone evita di riscaldare l’intera superficie del wafer, quando in realtà bastano modifiche in alcune zone specifiche.
Alcune cose da tenere in considerazione
L’installazione richiede un circuito elettrico dedicato e un flusso d’aria pulito e freddo, per mantenere stabile la temperatura degli emettitori. Il modulo si integra facilmente con i sistemi di riscaldamento esistenti, ma i risultati migliori si ottengono combinandolo con una strategia di controllo che tenga conto degli effetti legati ai bordi del wafer.
Un limite da considerare
Il numero di zone disponibili è fisso per ogni frame di lavorazione. Pertanto, è necessario pianificare in anticipo la disposizione delle zone, in modo da adattarle alle dimensioni del wafer e alle esigenze di controllo dei bordi.