Calore ad alta precisione per IR dei wafer
Nel processo di litografia, un’oscillazione di mezzo grado durante la cottura del fotoresist non è certo un problema trascurabile. Questo fenomeno si...
Lampada per essiccatore a wafer DNS (Screen)
Nella linea da 300 mm, l’essiccatore sembra funzionare correttamente, ma il profilo del fotoresistenza continua comunque a cambiare dopo il...
Riscaldamento zonato per fabbriche di wafer avanzate
Si può osservare come il wafer di 300 mm cada dai binari e vada nel modulo di cottura. Il fotoresist deve raggiungere la temperatura desiderata: una...
Cottura della poliimmide per fabbricazione di wafer
Sulla linea di produzione, la polimerizzazione del poliimmide non è semplicemente un altro passaggio termico. È una promessa dimensionale. Spostare...
Lampada riscaldante per wafer a spedizione veloce
Sul piano litografia si impara rapidamente che una soft bake con uno scostamento di mezzo grado compromette il budget CD, e una hard bake non...
Lampada ad alta efficienza per asciugatura wafer
On the fab floor, conosci la procedura. Una deriva ±0,5°C durante la cottura della fotoresist può compromettere un lotto da 500 wafer. Serve un...