Di fasilitas produksi, proses pemanasan jenis “soft bake” dan “hard bake” bukan sekadar proses penentuan suhu saja—melainkan juga proses penentuan toleransi suhu yang diperbolehkan. Perubahan suhu sebesar 1°C saja sudah bisa mempengaruhi kualitas produk yang dihasilkan. Itulah mengapa kami menggunakan modul pemanas inframerah yang terbagi menjadi beberapa zona, sehingga proses pemanasan dapat dikontrol dengan lebih akurat.
Yang penting secara teknis:
Kami menggunakan emitor inframerah berfrekuensi rendah yang dilengkapi dengan driver yang responsif cepat, sehingga panas dapat dialirkan ke tempat yang diinginkan, pada waktu yang tepat. Modul ini dibagi menjadi beberapa zona yang dikendalikan secara terpisah, sehingga suhu di setiap bagian wafer dapat dikontrol secara terpisah, bukan hanya rata-rata suhu di seluruh permukaan wafer. Dengan cara ini, tingkat keseragaman suhu di setiap bagian wafer mencapai ±0,1°C, sedangkan profil pemanasan fotorezyst mencapai ±0,5°C dari nilai target, dari siklus ke siklusnya. Penggunaan bahan-bahan yang bebas kuarsa dan memiliki emisi gas yang rendah membantu mencegah munculnya partikel-partikel di permukaan wafer, yang sangat penting untuk operasi di ruang bersih kelas 1–100.
Inilah alasan mengapa sistem ini cocok digunakan dalam proses litografi. Anda tidak boleh membiarkan terjadi waktu henti yang tidak direncanakan. Modul pemanas inframerah ini dapat beroperasi 24/7 tanpa adanya henti yang tidak direncanakan, dan umurnya melebihi 10.000 jam. Sistem ini sederhana, modular, dan dapat dikontrol secara terperinci di setiap zona.
Manfaatnya jelas:
Proses pemanasan berjalan lebih cepat, tingkat repetibilitas antar batch lebih baik, dan jumlah wafer yang gagal akibat ketidakteraturan suhu semakin berkurang. Penggunaan energi juga berkurang, karena kontrol berbasis zona memungkinkan hanya bagian tertentu yang dipanaskan, bukan seluruh permukaan wafer.
Hal-hal yang perlu diperhatikan:
Pemasangan memerlukan sumber daya listrik khusus serta aliran udara yang bersih dan sejuk agar suhu emitor tetap stabil. Modul ini dapat terhubung dengan sistem pemanasan yang sudah ada, tetapi manfaatnya akan maksimal jika digabungkan dengan strategi pengelolaan yang menggunakan kompensasi suhu di setiap zona.
Ada satu batasan: jumlah zona yang tersedia tetap sama untuk setiap frame. Oleh karena itu, tentukan terlebih dahulu zona-zona tersebut sesuai dengan ukuran wafer dan kebutuhan pengendalian tepi wafer.