Verhindern Sie die Kontamination der Wafer – bevor sie überhaupt beginnt Seien wir ehrlich: Ein Defekt an der Infrarotlampe in einer...

Stoppen Sie den „Glasregen“: Halten Sie Ihre Wafer während des IR-Trocknens sauber In der Produktion von MEMS-Sensoren ist ein defekter...

Kohlenstoffeinsparung bei der Waferverarbeitung – ohne den Verstand zu verlieren Jede Halbleiterfabrik muss sich derzeit mit dem Druck...

Warum wir auf Infrarotheizung für den Waferprozess umsteigen Im Moment spricht jeder über Kohlenstoffneutralität – und in der Halbleiterindustrie...

Sicherheit beim Erwärmen von Wafern mit Infrarotstrahlung Seien wir ehrlich: Die Kombination von Hochtemperatur-Infrarotlampen mit brennbaren...

Verhindern Sie, dass Ihr Wafer-Aushärtungssystem zu einem Ofen wird Das Problem mit IR-Lampen ist folgendes: Sie strahlen Wärme in alle Richtungen ab...

Im Bereich der Lithografie ist eine Abweichung vonhalb eines Halbwinkels während des Trocknungsprozesses des Fotoleims kein unbedeutender Fehler....

In der 300-mm-Linie scheint das Ofenaggregat stabil zu sein – doch das Profil des Fotolacks verändert sich trotzdem nach dem Weichbrennvorgang....

Beobachten Sie, wie ein 300-mm-Wafer von der Bahn rollt und in das Trocknungsmodul gelangt. Der Fotoresist muss die gewünschte Temperatur erreichen –...

On the fab floor ist das Aushärten von Polyimid nicht nur ein weiterer thermischer Schritt. Es ist ein dimensionales Versprechen. Verschiebt man die...

Auf der Lithografie-Etage lernt man schnell, dass bereits eine Abweichung von einem halben Grad beim Softbake das CD-Budget verschiebt, und ein...

Auf der Fertigungsebene kennen Sie den Ablauf. Eine Drift von ±0,5°C während des Photoresist-Backens reicht aus, um eine Charge von 500 Wafern...