Wafer on Cozy Outdoor Patio IR Comfort

Bộ sưởi wafer tiết kiệm năng lượng

Mon, 27 Jul 2026 16:06:11 +0800

Ngăn chặn tình trạng nhiễm bẩn wafer ngay từ đầu
Hãy thành thật mà nói: việc bóng đèn hồng ngoại bị vỡ trong quy trình sản xuất semiconductor là một tai họa thực sự. Không chỉ có vấn đề về việc bóng đèn ngừng hoạt động, mà khi ống thủy tinh bị vỡ, các mảnh thủy tinh và chất hóa học sẽ rơi xuống bề mặt wafer. Chỉ cần một lần như vậy thôi, toàn bộ sản phẩm đã trở thành rác thải.

Máy sấy wafer cảm biến MEMS

Sun, 26 Jul 2026 09:30:44 +0800

Ngăn chặn tình trạng vỡ thủy tinh: Giữ cho các wafer sạch sẽ trong quá trình sấy bằng tia hồng ngoại
Trong ngành sản xuất cảm biến MEMS, việc đèn hồng ngoại bị hỏng là một thảm họa thực sự. Đó không chỉ là sự hư hỏng của một bộ phận, mà còn là một thảm họa lớn. Hãy tưởng tượng rằng ống thủy tinh bị vỡ dưới áp lực cao; ngay lập tức, những mảnh thủy tinh và sợi tungsten sẽ rơi xuống các wafer. Chỉ cần một tiếng nổ nhỏ thôi cũng đủ để làm hỏng cả một lô sản phẩm. Sau đó, công việc tiếp theo là phải tháo dỡ toàn bộ buồng sấy để dọn dẹp mảnh vỡ.

Cảm biến hồng ngoại chính xác dành cho wafer

Thu, 23 Jul 2026 09:24:45 +0800

Giảm lượng khí carbon trong quy trình xử lý wafer (mà không làm mất kiểm soát)
Hiện nay, mọi nhà máy sản xuất chip bán dẫn đều phải đối mặt với áp lực phải đạt được mục tiêu giảm lượng khí thải xuống mức bằng không. Nhưng khi xem xét nguồn năng lượng bị lãng phí, có một lượng lớn năng lượng bị lãng phí do việc làm nóng và xử lý wafer.

Cảm biến nhiệt độ dành cho dụng cụ xử lý wafer

Thu, 23 Jul 2026 09:10:42 +0800

Tại sao chúng ta chuyển sang sử dụng phương pháp gia nhiệt bằng tia hồng ngoại trong quy trình xử lý wafer?

Hiện nay, mọi người đều nói về mục tiêu trung hòa carbon. Trong lĩnh vực bán dẫn, điều này có nghĩa là chúng ta cần phải suy nghĩ lại cách thức gia nhiệt các vật thể. Phương pháp cũ – sử dụng những lò nung lớn – giống như việc dùng toàn bộ năng lượng để làm ấm một miếng pizza nhỏ thôi. Đó là sự lãng phí.

Khoảng cách an toàn khi làm nóng wafer

Tue, 21 Jul 2026 01:37:28 +0800

Đảm bảo an toàn khi sử dụng đèn hồng ngoại để làm nóng wafer
Hãy thành thật mà nói: việc kết hợp các đèn hồng ngoại có nhiệt độ cao với các chất lỏng dễ cháy chính là nguyên nhân gây ra những hậu quả tồi tệ. Trong quy trình làm sạch wafer bằng hóa chất, điều cuối cùng mà chúng ta muốn chính là có một nguồn lửa gần các hơi độc hại.

Bộ phản quang dùng cho đèn sấy wafer

Fri, 17 Jul 2026 01:50:47 +0800

Hãy ngăn chặn hệ thống sấy khô wafer của bạn biến thành một “lò nướng” thực sự.
Vấn đề với các bóng đèn hồng ngoại là chúng phát ra nhiệt lượng theo mọi hướng – 360 độ. Trong quy trình sản xuất bán dẫn, bất kỳ lượng nhiệt nào không chiếu trực tiếp vào wafer đều là lãng phí. Nhưng còn tồi tệ hơn nữa: năng lượng dư thừa đó buộc phải đi đâu đó, và nó sẽ va vào các bức tường bên trong máy. Chúng tôi đã chứng kiến rất nhiều trường hợp mà thân máy trở nên quá nóng, gây nguy cơ bỏng cho người vận hành. Đó không phải là môi trường làm việc lý tưởng chút nào.

Nhiệt độ chính xác cao dành cho việc xử lý wafer bằng tia hồng ngoại

Thu, 02 Jul 2026 02:28:29 +0800

Trong quy trình in ấn bằng phương pháp lithography, việc xảy ra sai lệch 0,5 độ trong quá trình nung phim fotoresist không phải là vấn đề nhỏ. Điều này dẫn đến tỷ lệ sản phẩm bị lỗi trong các bài kiểm tra điện tử, và cũng gây ra sự xuất hiện của các hạt bụi mà chúng ta phải loại bỏ thông qua quy trình tái chế. Việc sử dụng nguồn nhiệt từ tia hồng ngoại để nung wafer cần phải đảm bảo rằng nhiệt độ được duy trì ổn định trên toàn bộ bề mặt wafer, mà không gây ra sự ô nhiễm.

Đèn sấy wafer DNS (Screen)

Mon, 29 Jun 2026 02:09:46 +0800

Trên dây chuyền sản xuất có kích thước 300mm, lò nung có vẻ hoạt động ổn định, nhưng độ dày lớp phim quang hóa vẫn bị thay đổi sau quá trình nung mềm. Điều này dẫn đến sự thay đổi về chiều rộng của các đường kẻ trên wafer, và nguyên nhân chính là do sự không đồng đều về nhiệt độ trên toàn bộ bề mặt wafer.

Thường thì nguyên nhân nằm ở bóng đèn sấy – các thành phần của bóng đèn bị lão hóa, công suất phát sáng thay đổi, và các điểm nóng mà bộ điều khiển không thể khắc phục được.

Hệ thống sưởi ấm theo từng khu vực trong nhà máy sản xuất wafer hiện đại

Fri, 26 Jun 2026 01:00:37 +0800

Hãy quan sát cảnh tấm wafer có kích thước 300 mm lăn ra khỏi đường ray và vào buồng nung. Lớp phủ quang học cần được đưa đến nhiệt độ mong muốn – một cách đồng đều trên toàn bộ bề mặt wafer. Nếu có sự chênh lệch nhiệt độ 1°C ở các vùng khác nhau, hoặc nếu có điểm lạnh xuất hiện ở mép wafer, thì việc kiểm soát kích thước các chi tiết trên wafer sẽ bị ảnh hưởng. Lúc đó, quy trình sản xuất sẽ phải dừng lại.