Lâmpada de aquecimento TEL (Tokyo Electron)

Fri, 19 Jun 2026 01:42:22 +0800

No setor de litografia, o desempenho do processo de secagem do fotoresist é o fator que determina o controle da espessura das linhas. Uma variação de 1°C no processo de secagem rápida ou lenta resulta imediatamente em variações na espessura das linhas, e basta uma única partícula para danificar um wafer. A lâmpada TEL foi projetada para lidar com essas realidades, e não para combatê-las.

O que realmente importa por trás dos bastidores É possível alcançar uma uniformidade de temperatura de ±0,1°C em todo o wafer, o que mantém o equilíbrio térmico durante o processamento do fotoresist. A lâmpada é projetada para funcionar em salas limpas de classe 1–100, e sua construção ajuda a reduzir a geração de partículas e gases. A reprodutibilidade não é apenas um slogan – ela é garantida pela própria estrutura da lâmpada. Os valores de ajuste permanecem constantes ao longo dos lotes produzidos, independentemente das mudanças ou do envelhecimento da lâmpada.

TEL on Cozy Outdoor Patio IR Comfort

Lâmpada de aquecimento TEL (Tokyo Electron)