Wafer on Cozy Outdoor Patio IR Comfort

DNS (Screen) waferdrogerlamp

Mon, 29 Jun 2026 02:09:47 +0800

Op de 300mm-lijn ziet de oven er stabiel uit, maar het profiel van de fotoresist verandert nog steeds na een zachte bakbeurt. Hierdoor ontstaan afwijkingen in de dikte van de lijnen tijdens het etchen. De oorzaak ligt meestal bij de drooglamp: de onderdelen verslechteren na verloop van tijd, de uitstoot varieert en er zijn warmtepunten die de controller niet kan compenseren.

Wat echt belangrijk is: De lamp in de DNS-screenwaardroger gebruikt kortegolflengte-infrarode emissies in een kwartzuurbuis. Hierdoor wordt er snel en efficiënt gehecht, met een consistentie van ±0,1°C op het niveau van de wafer. De uitstoot van de lamp blijft constant, zelfs na duizenden bakbeurten. Hierdoor kan de zachte bakbeurt nauwkeurig worden uitgevoerd volgens de vereisten, en blijft het profiel van de harde bakbeurt binnen de gewenste grenzen.

Polyimide uitharding voor waferproductie

Tue, 09 Jun 2026 00:41:02 +0800

Op de productievloer is het uitharden van polyimide niet zomaar een thermische stap. Het is een dimensionele belofte. Als je de temperatuur slechts enkele graden over de wafer heen omhoog of omlaag drukt, verschuift de spanning, vervormt de film en raakt de opbrengst buiten specificatie. Onze aanpak is gebouwd rond die realiteit: houd de temperatuur waar het telt, zonder concessies te doen aan reinheid of uptime.

Wat technisch telt
We combineren een kortegolf-infrarood emitter met een kwartsgestabiliseerd thermisch veld om op wafer-niveau een uniformiteit van ±0,1℃ te bereiken tijdens het polyimide uitharden. De herhaalbaarheid van cyclus tot cyclus ligt op ±0,2℃, zodat de cruciale parameters — restoplosmiddel, CTE — stabiel blijven. De kamer is schoonlokaalgeschikt, Class 1–100 compatibel, met een gecontroleerde deeltjesbaan die de generatie onder 0,1 deeltje/cm² bij 0,1 μm houdt. Het systeem verbruikt weinig stroom dankzij efficiënte omzetting en snelle thermische respons, wat het vermogensverbruik in idle verlaagt zonder de procestijd te verlengen.

Snelle verzending wafer verwarmingslamp

Mon, 08 Jun 2026 02:18:14 +0800

Op de lithografievloer leer je snel dat een zachte bak die een halve graad afwijkt het CD-budget beïnvloedt, en een harde bak die niet uniform over de wafer is, zal zorgen voor scumming en footing. Wanneer de lijn seconden per lot jaagt, is wachten op een lampwissel gewoon geen optie.

Wat er technisch toe doet

We hebben de snel-leverbare waferverwarmerlamp ontwikkeld rond een kortgolvige NIR-emitter in een kwartsomhulsel, zodat de warmte de wafer direct bereikt en snel reageert. Over het procesvenster blijft de uniformiteit op wafer-niveau binnen ±0,1°C, en de herhaalbaarheid van de fotoresist baktemperatuur blijft stabiel lot na lot. De assemblage is geclassificeerd voor cleanroom Klasse 1–100, en de materialen en afdichtingen zijn gekozen om de deeltjesgeneratie op nul te houden, zodat je de track of coater niet verontreinigt. De output is gekalibreerd voor consistente irradiantie, waardoor het thermische budget onder controle blijft, zelfs na een lampvervanging.