Hoge precisie warmte voor wafer IR

Thu, 02 Jul 2026 02:28:29 +0800

Op de lithografielijn betekent een afwijking van een halve graad tijdens het verhitten van de fotoresist geen klein probleem. Het resultaat is dat er fouten optreden tijdens de elektrische tests, en dat er ook meer deeltjes ontstaan die tot problemen leiden. Het IR-verwarmingssysteem moet niet alleen een bepaalde temperatuur bereiken, maar ook een constante en herhaalbare temperatuur over het hele wafer verspreiden, zonder dat er vervuiling ontstaat.

Wat belangrijk is onder de motorkap Wij hebben het IR-verwarmingssysteem gebouwd met behulp van kortegolflange infraroodhalogeenemitters in een kwartsversterkt module. Dit zorgt voor een snelle reactie en nauwkeurige temperatuursturing. Op een 300 mm grote wafer houden we de temperatuur binnen ±0,1°C. De herhaalbaarheid tussen verschillende producties blijft binnen enkele milligraden. De kamer is geschikt voor gebruik in schone ruimtes van klasse 1 tot 100. Hierbij worden materialen gebruikt die weinig gas afgeven, en wordt de luchtcirculatie zo geregeld dat er zo min mogelijk deeltjes ontstaan. Het doel is om geen deeltjes te produceren – dit hangt af van de oppervlaktekwaliteit, de keuze van de afsluitingen en een goede afvoer van afvalstoffen.

Hitte on Cozy Outdoor Patio IR Comfort

Hoge precisie warmte voor wafer IR