<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Suhu Panas on Cozy Outdoor Patio IR Comfort</title>
		<link>http://cozy-patio-ir.com/ms/tags/suhu-panas/</link>
		<description>Recent content in Suhu Panas on Cozy Outdoor Patio IR Comfort</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 02:28:29 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://cozy-patio-ir.com/ms/tags/suhu-panas/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Haba berketepatan tinggi untuk cip IR</title>
				<link>http://cozy-patio-ir.com/ms/posts/high-precision-heat-for-wafer-ir/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 02:28:29 +0800</pubDate>
				<guid>http://cozy-patio-ir.com/ms/posts/high-precision-heat-for-wafer-ir/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://cozy-patio-ir.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Haba berketepatan tinggi untuk cip IR&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bahagian proses litografi, perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pemanasan fotoresist bukanlah perkara yang boleh diabaikan. Perubahan ini akan menyebabkan masalah dalam ujian elektrikal, serta peningkatan jumlah zarah yang perlu diperbaiki melalui proses pembetulan semula. Pemanasan menggunakan gelombang inframerah perlu dilakukan dengan teliti agar suhu yang dihasilkan adalah stabil dan konsisten di seluruh permukaan wafer, tanpa menimbulkan kotoran.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dalam sistem ini&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami membina sistem pemanasan IR ini menggunakan pemancar inframerah berfrekuensi rendah yang terdapat dalam modul kuarsa. Sistem ini &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;direka&lt;/a&gt; untuk memberikan respons yang cepat dan kawalan suhu yang tepat. Pada wafer berukuran 300 mm, suhu &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;dapat&lt;/a&gt; dikawal pada tahap ±0.1°C, manakala kekonsistenan suhu antara setiap proses pemanasan pula kekal pada beberapa milidelusi sahaja. Ruang pemprosesan ini sesuai untuk digunakan dalam bilik bersih dari kelas 1 hingga kelas 100, dengan penggunaan bahan-bahan yang menghasilkan gas yang sedikit, serta sistem pengudaraan yang efektif untuk mengurangkan jumlah zarah di udara. Tiada penghasilan zarah sama sekali bukanlah sesuatu yang mustahil; ia bergantung pada kualiti permukaan wafer, cara penyegelan, serta strategi pengeluaran udara yang efektif untuk mengelakkan sisa-sisa fotoresist daripada terkumpul semula.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
