IR on Cozy Outdoor Patio IR Comfort

Penderia IR berketepatan tinggi untuk wafer

Thu, 23 Jul 2026 09:24:45 +0800

Mengurangkan Penggunaan Tenaga Dalam Proses Penghasilan Wafer (Tanpa Membazir Tenaga)
Setiap fasiliti pengeluaran semikonduktor kini berusaha keras untuk mencapai sasaran penggunaan tenaga yang serendah mungkin. Namun, apabila kita melihat di mana tenaga tersebut hilang, sebahagian besar daripadanya adalah haba yang terbuang semasa proses pemanasan wafer.

Cara lama menggunakan ketuhar konveksi yang besar sebenarnya sama saja seperti cuba memanaskan satu biji kacang dengan memanaskan seluruh dapur. Ini merupakan pembaziran tenaga yang sangat besar. Kami telah menemukan cara yang lebih baik dengan menggunakan sensor IR yang tepat serta sistem pemanasan yang ditujukan khusus pada wafer, bukan pada keseluruhan ruangan.

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Sun, 12 Jul 2026 05:04:23 +0800

Hentikan pembaziran haba: Mengapa reflektor aluminium yang tepat sangat penting
Dalam dunia pengeluaran semikonduktor, haba merupakan “kawan baik” kita—selagi ia tidak bergerak ke tempat yang tidak sepatutnya.

Fikirkan tentang lampu IR berkuasa tinggi tersebut. Tenaga yang dihasilkan oleh lampu ini tidak hanya mengarah ke depan, tetapi juga ke semua arah. Jika tiada cara untuk mengarahkan tenaga tersebut, ia akan melantun pada dinding dalaman mesin. Akibatnya, komponen mesin akan menjadi sangat panas, sehingga boleh melecur tangan pekerja. Penderia-penderia yang berada berdekatan juga akan terjejas kerana terdedah kepada haba yang berlebihan. Ini merupakan masalah yang serius.

Pemanas garaj yang dipasang di dinding jenis IR

Tue, 07 Jul 2026 10:43:08 +0800

Pendahuluan
Kami menghasilkan pemanas inframerah yang boleh dipasang di dinding – jenis pemanas yang sesuai untuk digunakan di bengkel yang sibuk atau bilik mandi yang lembap. Tujuannya adalah untuk memberikan haba tepat di tempat yang diinginkan, tanpa membuang wang untuk memanaskan udara yang tidak diperlukan.

Jika anda seorang jurutera atau sedang merancang sesuatu fasiliti, tugasnya sebenarnya sangat mudah: pastikan kuasa pemanas tersebut sesuai dengan saiz bilik tersebut. Jika dilakukan dengan betul, pemanasan akan berjalan dengan efisien. Namun, jika salah, anda akan menggunakan peralatan yang berlebihan, kurang efisien, dan akan menyebabkan pembaziran bajet.

Haba berketepatan tinggi untuk cip IR

Thu, 02 Jul 2026 02:28:29 +0800

Di bahagian proses litografi, perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pemanasan fotoresist bukanlah perkara yang boleh diabaikan. Perubahan ini akan menyebabkan masalah dalam ujian elektrikal, serta peningkatan jumlah zarah yang perlu diperbaiki melalui proses pembetulan semula. Pemanasan menggunakan gelombang inframerah perlu dilakukan dengan teliti agar suhu yang dihasilkan adalah stabil dan konsisten di seluruh permukaan wafer, tanpa menimbulkan kotoran.

Apa yang penting dalam sistem ini
Kami membina sistem pemanasan IR ini menggunakan pemancar inframerah berfrekuensi rendah yang terdapat dalam modul kuarsa. Sistem ini direka untuk memberikan respons yang cepat dan kawalan suhu yang tepat. Pada wafer berukuran 300 mm, suhu dapat dikawal pada tahap ±0.1°C, manakala kekonsistenan suhu antara setiap proses pemanasan pula kekal pada beberapa milidelusi sahaja. Ruang pemprosesan ini sesuai untuk digunakan dalam bilik bersih dari kelas 1 hingga kelas 100, dengan penggunaan bahan-bahan yang menghasilkan gas yang sedikit, serta sistem pengudaraan yang efektif untuk mengurangkan jumlah zarah di udara. Tiada penghasilan zarah sama sekali bukanlah sesuatu yang mustahil; ia bergantung pada kualiti permukaan wafer, cara penyegelan, serta strategi pengeluaran udara yang efektif untuk mengelakkan sisa-sisa fotoresist daripada terkumpul semula.