Di lantai pengeluaran, proses pembakaran secara lembut dan keras bukan sekadar langkah yang berkaitan dengan suhu semata-mata, tetapi juga merupakan langkah-langkah untuk memastikan ketepatan suhu tersebut. Perbezaan suhu sebanyak 1°C boleh mempengaruhi spesifikasi penting produk yang dihasilkan, manakala kawasan yang mempunyai suhu tinggi pula boleh merosakkan kualiti produk tersebut. Itulah sebabnya kami menggunakan modul pemanas inframerah yang dibahagikan kepada beberapa zon, agar proses pemanasan dapat dikawal dengan lebih tepat.
Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang dilengkapi dengan pengawal respons cepat, supaya haba dapat disalurkan ke tempat yang diinginkan, pada masa yang diinginkan. Modul ini dibahagikan kepada zon-zon yang dikawal secara berasingan, yang bermaksud suhu dapat dikawal secara terperinci untuk setiap bahagian wafer, bukannya secara keseluruhan. Dengan cara ini, keseragaman suhu pada setiap bahagian wafer dapat dicapai dalam lingkungan ±0.1°C, manakala profil pemanasan fotoresist pula dapat dikawal dalam lingkungan ±0.5°C, dari satu kitaran ke kitaran seterusnya. Penggunaan bahan tanpa kuarza serta bahan yang mengeluarkan gas yang sedikit membantu mengelakkan pembentukan zarah-zarah yang boleh merosakkan wafer. Ini merupakan ciri-ciri yang sangat diperlukan untuk operasi di bilik bersih kelas 1–100.
Mengapa ia berkesan dalam proses litografi:
Anda tidak boleh membiarkan mesin berhenti secara tiba-tiba. Modul inframerah ini dapat beroperasi 24/7 tanpa sebarang gangguan, dan sistem pemanasannya direka untuk bertahan lebih dari 10,000 jam. Ia mudah dikendalikan, dan suhu dapat dikawal pada setiap zon secara berasingan.
Kelebihannya:
Proses penyesuaian suhu berlaku dengan lebih cepat, kebolehulangan hasil pengeluaran menjadi lebih baik, dan jumlah wafer yang rosak akibat ketidakteraturan suhu berkurangan. Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana kawalan berdasarkan zon membolehkan hanya bahagian yang memerlukan penyesuaian sahaja yang dipanaskan.
Beberapa perkara yang perlu dipertimbangkan:
Pemasangan modul ini memerlukan litar elektrik khusus serta aliran udara yang bersih dan sejuk agar suhu pemancar dapat dikawal dengan stabil. Modul ini boleh digabungkan dengan sistem pemanasan sedia ada, tetapi kesan terbaik akan dicapai jika ia digunakan bersama strategi pengendalian yang menggunakan pengimbangan suhu untuk setiap zon.
Satu batasan: Jumlah zon yang boleh digunakan adalah tetap untuk setiap kitaran pengeluaran. Oleh itu, susunlah zon-zon tersebut terlebih dahulu agar sesuai dengan saiz wafer dan keperluan kawalan sempadan wafer tersebut.