Di bahagian proses litografi, perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pemanasan fotoresist bukanlah perkara yang boleh diabaikan. Perubahan ini akan menyebabkan masalah dalam ujian elektrikal, serta peningkatan jumlah zarah yang perlu diperbaiki melalui proses pembetulan semula. Pemanasan menggunakan gelombang inframerah perlu dilakukan dengan teliti agar suhu yang dihasilkan adalah stabil dan konsisten di seluruh permukaan wafer, tanpa menimbulkan kotoran.
Apa yang penting dalam sistem ini
Kami membina sistem pemanasan IR ini menggunakan pemancar inframerah berfrekuensi rendah yang terdapat dalam modul kuarsa. Sistem ini direka untuk memberikan respons yang cepat dan kawalan suhu yang tepat. Pada wafer berukuran 300 mm, suhu dapat dikawal pada tahap ±0.1°C, manakala kekonsistenan suhu antara setiap proses pemanasan pula kekal pada beberapa milidelusi sahaja. Ruang pemprosesan ini sesuai untuk digunakan dalam bilik bersih dari kelas 1 hingga kelas 100, dengan penggunaan bahan-bahan yang menghasilkan gas yang sedikit, serta sistem pengudaraan yang efektif untuk mengurangkan jumlah zarah di udara. Tiada penghasilan zarah sama sekali bukanlah sesuatu yang mustahil; ia bergantung pada kualiti permukaan wafer, cara penyegelan, serta strategi pengeluaran udara yang efektif untuk mengelakkan sisa-sisa fotoresist daripada terkumpul semula.
Dalam proses pemprosesan fotoresist, proses pemanasan yang lembut bertujuan untuk mengeluarkan pelarut dan mengurangkan tekanan pada lapisan fotoresist, manakala proses pemanasan yang lebih intensif pula bertujuan untuk mempersiapkan permukaan fotoresist agar siap untuk proses etching. Apabila gelombang inframerah mencapai sasaran dengan cepat dan stabil, masa yang diperlukan untuk proses pemanasan dapat dikurangkan, tanpa mengorbankan kawalan kualiti.
Kawalan suhu yang lebih baik bermakna kurangnya keperluan untuk melakukan proses pembetulan semula, hasil yang lebih konsisten, serta penggunaan tenaga yang lebih efisien. Sistem ini boleh beroperasi 24/7 dengan jadual penyelenggaraan yang tetap, sehingga masa henti yang tidak dirancang dapat dikurangkan, dan jadual pengeluaran dapat dikekalkan.
Pemanasan menggunakan gelombang inframerah yang berkualiti tinggi sangat sensitif terhadap perbezaan emisiviti pada pelbagai jenis lapisan dan substrat. Oleh itu, perlu ada penyesuaian pada kuasa lampu dan profil pemanasan untuk setiap substrat, serta memastikan keserasian dengan antaramuka alat pemberi lapisan fotoresist.
Sudah tentu, proses penyesuaian awal memerlukan masa. Namun, setelah proses penyesuaian selesai, proses pengeluaran dapat berjalan secara konsisten, dengan pemeriksaan berkala terhadap keluaran lampu dan kalibrasi suhu.