Tel (Tokyo Electron) lampada riscaldante

Fri, 19 Jun 2026 01:42:22 +0800

Nelle stanze dedicate alla litografia, le prestazioni del riscaldatore per la cottura del fotorest sono fondamentali per controllare lo spessore delle linee tracciate sulla superficie del wafer. Una variazione di temperatura di 1°C durante il processo di cottura si traduce immediatamente in variazioni dello spessore delle linee; inoltre, basta una sola particella per rovinare l’integrità del wafer. Il riscaldatore TEL è stato progettato per adattarsi a queste condizioni, piuttosto che cercare di contrastarle.

Quello che conta davvero
Si ottiene una uniformità della temperatura pari a ±0,1°C su tutta la superficie del wafer, il che permette di mantenere stabile il “budget termico” durante il processo di trattamento del fotorest. Il riscaldatore è progettato per funzionare correttamente in ambienti puliti di classe 1–100; inoltre, la sua struttura elimina al massimo la formazione di gas e particelle. La ripetibilità dei risultati non è solo una promessa, ma una caratteristica intrinseca del dispositivo. I valori di regolazione rimangono costanti anche tra diversi lotti di produzione, nonché nel tempo.

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