Pengeringan on Cozy Outdoor Patio IR Comfort

Audit energi untuk proses pengeringan di pabrik

Tue, 28 Jul 2026 02:26:36 +0800

Berhentilah memanaskan dinding-dinding mesin tersebut (dan mulailah memanaskan wafer-nya saja). Sejujurnya, di pabrik semikonduktor, panas yang tidak terkendali merupakan masalah serius. Jika Anda menggunakan sistem pemanasan konvensional atau pemanas beraroma omnidireksional, Anda pasti sudah menyadari masalahnya. Energi panas tersebut tidak hanya mengenai wafer, tetapi juga seluruh bagian dalam ruang pemrosesan. Akibatnya, dinding-dinding bagian dalam menjadi sangat panas. Hal ini merupakan pemborosan energi, dan tentu saja berbahaya bagi orang-orang yang bekerja di dekat mesin tersebut. Mengapa harus membayar biaya untuk memanaskan sejumlah besar logam, padahal yang penting hanyalah silikonnya saja?

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Sun, 26 Jul 2026 09:31:15 +0800

Hentikan “hujan kaca” ini: Jaga kebersihan wafer selama proses pengeringan menggunakan sinar inframerah
Dalam dunia produksi sensor MEMS, kerusakan pada lampu inframerah merupakan bencana yang serius. Bukan sekadar kerusakan komponen saja, tetapi hal ini bisa merusak seluruh proses produksi. Bayangkanlah tabung kuarsa yang patah akibat tekanan tinggi. Tiba-tiba, potongan kaca dan filamen tungsten jatuh langsung ke atas wafer Anda. Dengan satu kerusakan saja, seluruh batch produksi akan rusak. Setelah itu, perlu dilakukan pembersihan menyeluruh terhadap seluruh bagian mesin tersebut.

Pemanas pengering untuk laboratorium di atas chip

Sun, 28 Jun 2026 00:58:00 +0800

Di area produksi, proses pengeringan menggunakan teknologi lab-on-a-chip mengalami gangguan ketika tahap pengeringan tidak berjalan sesuai rencana. Terdapat endapan pada saluran-saluran tersebut, dan kualitas wafer berukuran 300 mm pun menurun. Pemanas perlu bekerja sesuai dengan petunjuk yang ditetapkan, bukan sesuai suhu ruangan.

Yang penting secara teknis:
Kami merancang pemanas untuk proses pengeringan ini menggunakan emitter inframerah berfrekuensi tinggi yang terletak dalam modul kuarsa-keramik. Dengan demikian, respons pemanas sangat cepat, dan massa termalnya rendah—itu merupakan hal yang sangat dibutuhkan. Konsistensi suhu di seluruh area pengeringan tetap berada dalam rentang ±0,1°C, sehingga proses pengeringan fotoresist dapat berjalan sesuai spesifikasi yang ditentukan.