Chauffage zoné pour des usines de wafers avancées

Fri, 26 Jun 2026 01:00:37 +0800

Voyez comment une galette de 300 mm glisse hors de la piste et entre dans le module de cuisson. Le photorésistant doit atteindre la température souhaitée, de manière uniforme, sur toute la surface de la galette. Si la température dans certaines zones varie de 1°C, ou si des zones froides apparaissent aux bords, alors le contrôle des dimensions critiques devient impossible. La ligne de production s’arrête alors.

Ce qui est vraiment important en réalité Nous avons conçu ce système de cuisson en utilisant un chauffage par zones, avec des éléments indépendants qui permettent un contrôle précis de la température sur toute la surface de la galette. Pendant les phases de cuisson douce et forte, le système maintient une stabilité de la température de ±0,1°C. Les profils de chauffage sont répétitifs, ce qui permet de préserver la qualité du photorésistant et d’éviter l’apparition de vagues thermiques.

Module de chauffage infrarouge zoné

Thu, 18 Jun 2026 00:39:20 +0800

Sur le site de fabrication, le chauffage doux et le chauffage intense ne représentent pas simplement des étapes liées à la température : ce sont plutôt des étapes relatives aux tolérances à respecter. Une déviation de 1 °C peut avoir des conséquences graves sur les dimensions critiques des wafers, tandis qu’un point chaud peut entraîner une baisse significative du taux de production. C’est pourquoi nous avons conçu des modules de chauffage infrarouge divisés en zones indépendamment contrôlables, afin d’éliminer tout aspect subjectif dans la gestion de la température.

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Chauffage zoné pour des usines de wafers avancées

Module de chauffage infrarouge zoné