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		<title>Sèche Linge on Cozy Outdoor Patio IR Comfort</title>
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				<title>Lampe sècheur de wafer DNS (Écran)</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://cozy-patio-ir.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Lampe sècheur de wafer DNS (Écran)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur la ligne de 300 mm, le four semble stable, mais le profil du photorésistant continue de varier après le séchage doux. Cela entraîne des variations dans la largeur de la ligne lors du processus d’etching. La cause en est généralement un budget thermique inégal sur toute la surface de la Wafer.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Le plus souvent, la cause réside dans la lampe utilisée pour le séchage : ses composants s’usent avec le temps, sa &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;puissance&lt;/a&gt; diminue, et il y a des points chauds que le contrôleur ne peut pas compenser.&lt;/p&gt;</description>
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