Chauffage à haute précision pour IR de wafer

Thu, 02 Jul 2026 02:28:29 +0800

Sur le plan de la lithographie, un décalage d’un demi-degré pendant le séchage du photorésiste n’est pas une petite nuisance. Cela se traduit par des problèmes lors des tests électriques, ainsi que par l’apparition de particules qui nécessitent des corrections supplémentaires. Le chauffage par infrarouges doit non seulement atteindre la température souhaitée, mais aussi assurer une chaleur stable et répétable sur toute la surface du wafer, sans causer de contamination.

Ce qui est important en réalité Nous avons conçu le système de chauffage par infrarouges autour d’émetteurs à halogène à ondes courtes, intégrés dans un module en quartz, afin d’obtenir une réponse rapide et un contrôle thermique précis. Sur un wafer de 300 mm, nous parvenons à maintenir une uniformité de température comprise entre ±0,1 °C. La répétabilité d’un cycle à l’autre reste également très faible, à quelques millidegrés près. La chambre est compatible avec les environnements propres de classe 1 à classe 100, grâce à l’utilisation de matériaux à faible émission de gaz et à un système de ventilation qui permet de limiter la présence de particules. Une absence totale de particules n’est pas un objectif impossible : cela dépend du fini de surface, des choix de scellage, ainsi que de la stratégie d’évacuation des gaz, afin d’éviter que les sous-produits du photorésiste ne se déposent à nouveau.

Chaleur on Cozy Outdoor Patio IR Comfort

Chauffage à haute précision pour IR de wafer