Curado de poliimida para fabricación de obleas

Tue, 09 Jun 2026 00:41:02 +0800

En el piso de fabricación, el curado de poliimida no es solo otro paso térmico. Es una promesa dimensional. Aumenta o disminuye la temperatura incluso unos pocos grados a través del wafer, y cambiarás el estrés, deformarás la película y verás cómo el rendimiento se aleja de las especificaciones. Construimos nuestro enfoque en torno a esa realidad: mantener la temperatura donde importa, sin renunciar a la limpieza o al tiempo de actividad.

Lo que importa, técnicamente
Combinamos un emisor de infrarrojos de onda corta con un campo térmico estabilizado en cuarzo para lograr una uniformidad a nivel de wafer de ±0.1°C durante el curado de poliimida. La repetibilidad de ciclo a ciclo se sitúa en ±0.2°C, por lo que los números que importan—solvente residual, CTE—se mantienen constantes. La cámara está lista para sala limpia, compatible con Clase 1–100, con un camino controlado de partículas que mantiene la generación por debajo de 0.1 partículas/cm² a 0.1 μm. El sistema consume poca energía gracias a la conversión eficiente y la rápida respuesta térmica, reduciendo el consumo en reposo sin añadir tiempo de proceso.

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Curado de poliimida para fabricación de obleas