Calentador de obleas de alta eficiencia energética
Evite la contaminación de los wafers desde el principio
Seamos honestos: que una lámpara infrarroja estalle en una línea de producción de...
Calentador para el secado de obleas de sensores MEMS
Detenga la “lluvia de vidrio”: mantenga sus obleas limpias durante el secado por infrarrojos
En el mundo de la producción de sensores MEMS, que una...
Sensor IR de precisión para obleas
Reducir las emisiones de carbono en el procesamiento de obleas (sin perder la cabeza)
Todas las fábricas de semiconductores están bajo presión para...
Sensores de temperatura para herramientas de obleas
Por qué estamos pasando a usar calefacción por infrarrojos para el procesamiento de obleas Todos hablan actualmente sobre la neutralidad carbónica....
Distancia de seguridad para el calentamiento de wafer
Mantener todo seguro al calentar las obleas con luz infrarroja
Seamos honestos: combinar lámparas de infrarrojos de alta temperatura con solventes...
Reflector para lámpara de curado de obleas
Impida que su sistema de curado de obleas se convierta en un horno
El problema con las lámparas de infrarrojos es que emiten calor en todas...
Calor de alta precisión para IR de obleas
En el proceso de litografía, un desvío de medio grado durante el secado del fotopolímero no es algo insignificante. Esto se traduce en una...
Lámpara secadora de obleas DNS (Screen)
En la línea de 300 mm, el horno parece estar estable, pero el perfil del fotoretino sigue variando después del proceso de horneado suave. Esto...
Curado de poliimida para fabricación de obleas
En el piso de fabricación, el curado de poliimida no es solo otro paso térmico. Es una promesa dimensional. Aumenta o disminuye la temperatura...
Lámpara calentadora de obleas de envío rápido
En la planta de litografía, aprendes rápido que un horneado suave que deriva medio grado altera el presupuesto CD, y un horneado duro que no sea...
Bombilla de secador de obleas de alta eficiencia
En el piso de fabricación, ya conoce el procedimiento. Una deriva de ±0.5°C durante el horneado del fotoresistente es suficiente para descartar un...