Trocknen on Cozy Outdoor Patio IR Comfort

Energieaudit für die Trocknungsanlage

Tue, 28 Jul 2026 02:26:31 +0800

Hören Sie auf, die Wände zu heizen – und heizen Sie stattdessen die Wafer.
Seien wir ehrlich: In einer Halbleiterfabrik ist unbekontrollierte Wärme ein Albtraum. Wenn Sie alte Konvektionsheizungen oder allseitig wirkende Heizgeräte verwenden, haben Sie vermutlich bereits das Problem bemerkt. Die Energie trifft nicht nur auf die Wafer – sie durchflutet den gesamten Raum. Dadurch werden die Innenseiten der Wände extrem heiß. Das ist eine Verschwendung von Energie und stellt außerdem eine echte Sicherheitsgefahr für alle dar, die in der Nähe der Maschine arbeiten. Warum sollte man Geld ausgeben, um einen großen Stahlkörper zu erhitzen, wenn man sich doch nur um das Silizium kümmern will?

Heizgerät zum Trocknen von MEMS Sensorwafern

Sun, 26 Jul 2026 09:30:23 +0800

Stoppen Sie den „Glasregen“: Halten Sie Ihre Wafer während des IR-Trocknens sauber
In der Produktion von MEMS-Sensoren ist ein defekter Infrarotstrahler ein Albtraum. Es handelt sich dabei nicht einfach um einen kaputten Schalter – es ist eine Katastrophe.
Stellen Sie sich vor, ein Quarzrohr bricht unter hohem Druck. Plötzlich fallen Glasstücke und Wolframfäden direkt auf Ihre Wafer herab. Mit einem einzigen Knall ist bereits eine ganze Charge ruiniert. Danach muss die gesamte Kammer auseinandergebaut werden, um das Chaos zu beseitigen.

Trocknungsheizer für Labore auf Chip Basis

Sun, 28 Jun 2026 00:58:00 +0800

Auf der Produktionsfläche läuft die Prozesskette im Labor-on-a-Chip-System schief, wenn die Trocknungsphase nicht ordnungsgemäß abläuft. Es treten Randverunreinigungen sowie Schmutz in den Kanälen auf – außerdem sinkt die Ertragsrate bei Wafern mit einem Durchmesser von 300 mm. Der Heizer muss sich an die vorgegebenen Vorgaben halten und nicht an die Raumtemperatur.

Was technisch wichtig ist:
Wir haben den Trocknungsheizer für das Labor-on-a-Chip-System mit Kurzwellen-Infrarotstrahlern in einem Quarzkeramikmodul konstruiert. Dadurch wird eine schnelle Reaktionszeit sowie eine geringe thermische Masse erreicht – genau das, was man braucht. Die Gleichmäßigkeit der Temperatur auf der Waferoberfläche bleibt bei ±0,1°C innerhalb der Trocknungszone konstant. Dadurch bleiben auch die Parameter für die Weich- und Harttrocknung des Photoresists innerhalb der vorgegebenen Grenzen.