Trong quy trình sản xuất, việc điều chỉnh nhiệt độ không chỉ liên quan đến mức nhiệt cần đạt được, mà còn liên quan đến mức độ chính xác trong việc kiểm soát nhiệt độ đó. Chỉ cần sự sai lệch 1°C thôi cũng có thể ảnh hưởng đến chất lượng sản phẩm. Đó là lý do tại sao chúng tôi thiết kế các mô-đun sưởi ấm bằng tia hồng ngoại để loại bỏ yếu tố ngẫu nhiên trong quá trình kiểm soát nhiệt độ.
Những yếu tố quan trọng về mặt kỹ thuật
Chúng tôi sử dụng các bộ phát tia hồng ngoại sóng ngắn kèm theo bộ điều khiển có khả năng phản ứng nhanh, nhờ đó nhiệt độ có thể được kiểm soát chính xác ở vị trí và thời điểm mong muốn. Mô-đun này được chia thành các khu vực riêng biệt, giúp kiểm soát nhiệt độ một cách chính xác ở từng khu vực trên wafer, thay vì chỉ tính toán giá trị trung bình trên toàn bộ bề mặt wafer. Trong thực tế, điều này giúp đạt được mức độ đồng đều về nhiệt độ ở mức ±0.1°C, và mức độ chính xác trong quá trình sấy khô wafer ở mức ±0.5°C, từ chu kỳ này sang chu kỳ khác. Việc sử dụng các vật liệu không chứa thạch anh cùng khả năng giảm lượng khí thải giúp tránh việc tạo ra các hạt bụi trên bề mặt wafer – điều rất quan trọng trong môi trường làm việc có độ sạch cao từ cấp độ 1 đến 100.
Tại sao giải pháp này lại hiệu quả trong quy trình sản xuất
Bạn không thể chấp nhận việc dừng máy một cách bất ngờ. Mô-đun sưởi ấm bằng tia hồng ngoại này có thể hoạt động liên tục 24/7 mà không gặp sự cố nào, và tuổi thọ của nó lên đến hơn 10.000 giờ. Thiết kế của nó đơn giản, dễ sử dụng, và có thể kiểm soát ở từng khu vực riêng biệt.
Lợi ích của giải pháp này
Bạn sẽ có thể đạt được mức nhiệt cần thiết nhanh hơn, đồng thời đảm bảo độ đồng đều cao hơn trong từng lô sản phẩm. Ngoài ra, lượng năng lượng tiêu thụ cũng giảm đi – việc kiểm soát nhiệt độ theo từng khu vực giúp tránh việc làm nóng toàn bộ bề mặt wafer khi chỉ cần điều chỉnh nhiệt độ ở một vài vị trí nhất định.
Những điều cần lưu ý
Việc lắp đặt yêu cầu có mạch điện riêng biệt và luồng khí sạch, mát để duy trì nhiệt độ ổn định của bộ phát tia hồng ngoại. Mô-đun này có thể kết nối dễ dàng với các hệ thống sưởi hiện có, nhưng hiệu quả sẽ tốt hơn nếu kết hợp nó với chiến lược điều chỉnh nhiệt độ dựa trên từng khu vực cụ thể.
Một hạn chế cần lưu ý là số lượng khu vực có thể được điều chỉnh là cố định. Vì vậy, bạn cần xác định trước số lượng khu vực cần thiết để phù hợp với kích thước wafer và yêu cầu kiểm soát nhiệt độ ở các mép wafer.