300mm 웨이퍼를 처리할 때, 리소그래피 공정에서 가장 중요한 요소는 바로 열처리 공정입니다. 만약 AHU의 히터가 오차를 보인다면, 열처리 공정도 함께 변동하게 되고, 결함 감지 장치가 문제를 감지하기 훨씬 전에 생산성이 저하됩니다. 저희는 웨이퍼가 있는 곳에서 열 환경을 안정적으로 유지하기 위해 특수한 냉난방 히터 모듈을 개발했습니다.
핵심은 무엇인가? 저희는 공급되는 공기의 온도를 ±0.1°C 이내로 유지하여, 열처리 과정에서 일관된 조건이 유지되도록 합니다. 이 모듈은 입자 발생이 전혀 없는 클래스 1–100 등급의 청정실에서 작동하며, 실시간으로 입자 상태를 모니터링하여 그 사실을 확인합니다. 히터는 발열이 적은 소재와 밀폐된 구조를 사용하여, 소프트 베이크나 하드 베이크 과정에서 오염이 발생하지 않도록 합니다. 또한, 이 모듈은 24/7 연속 작동을 할 수 있도록 설계되었으며, 표준 산업용 인터페이스를 통해 기존 AHU 제어 시스템과 연동됩니다.
사실, 포토레지스트의 열처리는 단순한 공정이 아닙니다. 이는 치수적 한계와 직결된 공정입니다. 약간의 온도 변동만으로도 치수 변화나 가장자리 부분의 불균일성이 발생할 수 있습니다. 따라서 웨이퍼 표면의 온도를 일정하게 유지함으로써, 같은 로트의 웨이퍼들이 동일한 조건에서 처리될 수 있습니다. 이를 통해 더 정확한 치수 제어가 가능해지고, 재작업도 줄어들며, 예측 가능한 열 관리가 가능해집니다. 또한, 과도한 에너지 소모를 막아 효율도 향상됩니다.
설치할 때는 AHU의 공기 흐름 방향과 정적 압력을 반드시 고려해야 합니다. 부적절한 덕트 구조는 미세한 난류를 유발하여 일관성을 해칩니다. 또한, 모듈에는 깨끗한 전력 공급이 필요합니다. 전압의 변동은 단기적인 온도 변동을 초래할 수 있습니다. 따라서 리소그래피 공정과 함께 모듈의 성능을 검증하는 것이 중요합니다.