در خط تولید با طول ۳۰۰ میلیمتر، بخش لیتوگرافی نقش حیاتی دارد. اگر دمای هیتر AHU تغییر کند، پروفایل گرمایشی نیز تحت تأثیر قرار میگیرد؛ در نتیجه، بازدهی تولید از همان ابتدا کاهش مییابد، حتی قبل از اینکه دستگاههای تشخیص نقصها مشکلات را شناسایی کنند. ما ماژول هیتر سیستم تهویه فاب را طوری طراحی کردهایم که میدان حرارتی در همان نقطه کلیدی، یعنی روی ویفر، پایدار بماند.
آنچه اهمیت دارد:
ما تنوع دمایی در جریان هوای ورودی را در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد نگه میداریم؛ به این ترتیب، شرایط ورودی هوا برای فرآیند گرمایش یکنواخت خواهد بود. این ماژول در اتاقهای پاکسازی کلاس ۱-۱۰۰ کار میکند؛ در این اتاقها هیچ ذرهای تولید نمیشود، و این موضوع از طریق نظارت بر ذرات در محل تأیید میشود. هیتر از موادی با تولید گاز کم استفاده میکند و مسیر حرارتی آن نیز بسته است؛ بنابراین در حین فرآیند گرمایش، هیچ آلودگیای ایجاد نمیشود. توان خروجی این ماژول برای کار ۲۴/۷ مناسب است و نرخ تغییر دما نیز کنترل شده است؛ همچنین، این ماژول از طریق رابطهای صنعتی استاندارد، به سیستم کنترل AHU متصل میشود.
نکته مهم این است که فرآیند گرمایش فوتورزیست، یک فرآیند ساده نیست؛ بلکه یک فرآیند حساس است. حتی کوچکترین تغییرات دمایی میتواند منجر به تغییرات در ابعاد و یکنواختی لبههای ویفر شود. ما دمای اتاق را در سطح ویفر کنترل میکنیم تا فرآیند گرمایش در هر بار تکرار، یکسان باشد. این کار باعث میشود کنترل ابعاد ویفر بهتر شود، تعداد بازسازیها کاهش یابد و میزان انرژی مصرفی نیز کنترل شود. کارایی نیز بهبود مییابد، زیرا دیگر نیازی نیست انرژی را صرف فرآیندهای تصحیحی کنیم.
برای نصب این ماژول، باید به جهت جریان هوا و محدودیتهای فشار استاتیک AHU توجه کرد؛ زیرا عدم تطابق در لولهها میتواند باعث ایجاد توربولانسهای کوچک شود که منجر به از بین رفتن یکنواختی دما میشود. همچنین، این ماژول به منبع تغذیه پاک نیاز دارد؛ زیرا نوسانات ولتاژ میتواند باعث نوسانات دمایی کوتاهمدت شود. باید با توجه به فرآیندهای گرمایش لیتوگرافی، زمان راهاندازی ماژول را برنامهریزی کرد و پروفایل دمایی آن را با شرایط خاص ویفر مقایسه کرد.