Auf der Produktionsfläche läuft die Prozesskette im Labor-on-a-Chip-System schief, wenn die Trocknungsphase nicht ordnungsgemäß abläuft. Es treten Randverunreinigungen sowie Schmutz in den Kanälen auf – außerdem sinkt die Ertragsrate bei Wafern mit einem Durchmesser von 300 mm. Der Heizer muss sich an die vorgegebenen Vorgaben halten und nicht an die Raumtemperatur.
Was technisch wichtig ist:
Wir haben den Trocknungsheizer für das Labor-on-a-Chip-System mit Kurzwellen-Infrarotstrahlern in einem Quarzkeramikmodul konstruiert. Dadurch wird eine schnelle Reaktionszeit sowie eine geringe thermische Masse erreicht – genau das, was man braucht. Die Gleichmäßigkeit der Temperatur auf der Waferoberfläche bleibt bei ±0,1°C innerhalb der Trocknungszone konstant. Dadurch bleiben auch die Parameter für die Weich- und Harttrocknung des Photoresists innerhalb der vorgegebenen Grenzen.
Der Heizer ist für Reinräume der Klassen 1–100 geeignet: Versiegelte Gehäuse, Materialien der HEPA-Klasse sowie eine Null-Partikel-Produktion während des kontinuierlichen Betriebs. Die Wiederholgenauigkeit ist entscheidend – die eingestellte Temperatur bleibt von Zyklus zu Zyklus in einem engen Bereich konstant.
Warum dieser Heizer für unsere Arbeit geeignet ist:
Dieser Heizer löst die Probleme bei der Herstellung und Verpackung von Wafern: konstantes Trocknen nach der Reinigung, stabile Bedingungen für die Lithografie sowie vorhersehbare Temperaturen über mehrere Chargen hinweg. Die hohe Gleichmäßigkeit reduziert Defekte im Photoresist sowie Randeffekte – dadurch verkürzen sich die Qualifizierungszyklen und es entsteht weniger Ausschuss.
Der Energieverbrauch sinkt, da die Strahler schnell auf die gewünschte Temperatur kommen und dort konstant bleiben, ohne auszuscheren. Die Zuverlässigkeit des Heizers wurde bereits bei 24/7-Betrieb unter Beweis gestellt – es gab keine unplanmäßigen Stillstände während der Tests.
Was Sie im Voraus wissen müssen:
Bei der Installation muss die Schnittstelle des Tools angepasst werden, außerdem müssen Spannung und Anschlussmerkmale für Ihre Plattform überprüft werden. Das Gehäuse passt in Standardprozessstationen – doch es müssen trotzdem Auslassräume um die Strahler herum vorhanden sein, damit die Luftzirkulation und die Partikelkontrolle gewährleistet werden können.
Planen Sie regelmäßige Kalibrierungen ein, um diese Gleichmäßigkeit von ±0,1°C aufrechtzuerhalten. Das ist kein einmaliger Akt – es gehört zur Routine der Prozesskontrolle.